[发明专利]一种用于准分子激光器的气体循环系统有效

专利信息
申请号: 201510388921.4 申请日: 2015-07-03
公开(公告)号: CN104953444B 公开(公告)日: 2018-05-01
发明(设计)人: 沙鹏飞;单耀莹;彭卓君;宋兴亮;蔡茜玮;范元媛;李慧;赵江山;周翊 申请(专利权)人: 中国科学院光电研究院
主分类号: H01S3/036 分类号: H01S3/036
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司11021 代理人: 宋焰琴
地址: 100094*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 准分子激光 气体 循环系统
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种用于准分子激光器的气体循环系统,该系统通过补充卤素气体及去除杂质而提高准分子激光器气体工作寿命,尤其适用于ArF、KrF准分子激光器。

背景技术

准分子激光器可以输出紫外波段的激光,并且具有非常窄的线宽和较大的能量,因此被广泛用作光刻行业的光源。目前在光刻行业中应用最广泛的准分子激光器为ArF和KrF准分子激光器。准分子激光器的工作气体为稀有气体卤化物如ArF和KrF,是通过卤素气体F2和稀有气体氩气和氪气反应生成。准分子激光器与其它气体激光器不同,准分子激光器需要比较频繁的更换工作气体,这是因为准分子激光器面临着一个共同的问题就是准分子激光器工作气体的寿命随着工作时间的增长而衰减,这会导致激光器输出能量的衰减以及放电不稳定,所以当工作气体被消耗时,只能通过换气来恢复激光器的输出能量。准分子激光器的工作气体被消耗主要是因为卤素气体会跟激光器内部的腔体材料反应,这些反应消耗了卤素气体的同时还生成了一些不期望得到的杂质,其后果是一方面准分子激光器由于卤素气体的减小造成输出能量下降,另一方面杂质的产生会导致准分子激光器电极间产生细丝状的放电从而破坏放电的均匀性,更严重的后果是激光器无法正常工作。早期工作人员是通过不断的换气来保持激光器的正常工作,但是这会造成大量昂贵的工作气体的消耗,导致激光器的工作成本非常高。后来工作人员采用少量补充卤素气体的方式来增加工作气体的寿命,但是这种方法无法去除激光器工作过程中产生的杂质,不能从根本上解决细丝放电的问题。再后来工作人员通过冷阱的方式去除工作气体中的杂质,然而为了有效的去除杂质,冷阱温度要设置为零下180℃,如此低的温度对于KrF准分子激光器是不可行的,因为这样低的温度会降低Kr的活性甚至导致其液化。再后来工作人员在准分子激光器的工作气体中添加了氧气,氧气跟杂质反应生成液化温度高的气体再通过冷阱去除这些生成的杂质。这种方案确实可以提高准分子激光器工作气体的寿命,然而由于氧气的加入会导致激光器的输出能量下降20%到30%。

现有的方案还有采用直接液化杂质CF4的方式,但是该杂质的液化温度很低(零下128.06℃),采用液化的方式有效除去该杂质需要零下180℃的低温环境,这样的低温会导致工作气体中稀有气体Kr的活性下降甚至液化,所以不适用于KrF准分子激光器。

发明内容

(一)要解决的技术问题

本发明所要解决的是现有的提高准分子激光器工作气体寿命的方法不能降低成本,也不能去除工作气体中的杂质,或者适用范围有限,或者导致激光器输出能量的下降的缺陷。

(二)技术方案

为解决上述问题,本发明提出一种用于准分子激光器的气体循环系统,准分子激光器包括腔体,该腔体具有进入管道和出气管道,气体循环系统包括冷凝器、氧气提供装置、压缩机和储气室,所述储气室分别与所述出气管道、冷凝器、氧气提供装置通过阀门连接;所述氧气提供装置用于向所述储气室提供氧气;所述储气室具有一定的容积,用于容纳由所述氧气提供装置提供的氧气和来自所述腔体的工作气体,并使该氧气和该工作气体充分反应,生成反应气体;所述冷凝器用于对所述反应气体进行制冷,输出未被冷凝的气体;所述压缩机用于抽取所述冷凝器中未被冷凝的气体并输送到所述腔体中。

根据本发明的具体实施方式,所述工作气体包括稀有气体、卤素气体及缓冲气体。

根据本发明的具体实施方式,所述稀有气体为Kr气或Ar气,所述卤素气体为氟气。

根据本发明的具体实施方式,所述冷凝器内的温度为-80℃~-120℃。

根据本发明的具体实施方式,所述冷凝器包括器壁和包裹器壁外围的绝缘层,所述绝缘层的结构为空腔结构,其内可以充入低温介质,用于保持所述器壁的低温。

根据本发明的具体实施方式,所述器壁的内部填充有铜绒丝。

根据本发明的具体实施方式,还包括预混气提供装置,其通过阀门连接于所述腔体的进气管道,用于为所述腔体提供初始的工作气体。

根据本发明的具体实施方式,还包括卤素气体提供装置,其通过阀门连接于所述腔体的进气管道,用于为所述腔体补充卤素气体。

(三)有益效果

本发明可以有效的降低换气次数提高了工作气体的寿命降低了激光器的运行成本,同时并不会导致激光器在除杂过程中由于添加其它气体而使输出能量大幅下降。

附图说明

图1为本发明的用于准分子激光器的气体循环系统的原理结构示意图;

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