[发明专利]一种具有包覆铜层印制电路板的制作方法在审

专利信息
申请号: 201510392098.4 申请日: 2015-07-06
公开(公告)号: CN105050327A 公开(公告)日: 2015-11-11
发明(设计)人: 苗国厚;曾璇;刘克敢;张军杰 申请(专利权)人: 深圳崇达多层线路板有限公司
主分类号: H05K3/02 分类号: H05K3/02
代理公司: 深圳市精英专利事务所 44242 代理人: 冯筠
地址: 518000 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 包覆铜层 印制 电路板 制作方法
【权利要求书】:

1.一种具有包覆铜层印制电路板的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:

S1提供一表面覆有铜箔的电路板,铜箔表面对应电路板所需钻通孔的位置蚀刻掉部分铜,使其在铜箔表面形成凹槽,所述的凹槽的尺寸大于所述通孔的孔径;

S2钻出步骤S1中所述的通孔;

S3全板电镀使电路板表面、所述通孔内壁包覆铜层;

S4对通孔进行树脂塞孔,并对塞孔的树脂平坦化处理,使包覆铜层的外表面平坦。

2.根据权利要求1所述的具有包覆铜层印制电路板的制作方法,其特征在于,所述步骤S1中,凹槽底部的铜厚≧5.5μm。

3.根据权利要求2所述的具有包覆铜层印制电路板的制作方法,其特征在于,所述凹槽为圆形,凹槽比通孔的单边大90μm。

4.根据权利要求3所述的具有包覆铜层印制电路板的制作方法,其特征在于,所述凹槽的深度为4-6μm或7-9μm。

5.根据权利要求4所述的具有包覆铜层印制电路板的制作方法,其特征在于,所述步骤S1中,铜箔表面对应电路板所需钻通孔的位置蚀刻掉部分铜的方法为:在铜箔表面贴干膜,经曝光、显影后,使干膜对应需形成凹槽的位置形成窗口,然后用酸性蚀刻液对暴露在窗口位置的铜箔进行蚀刻。

6.根据权利要求5所述的具有包覆铜层印制电路板的制作方法,其特征在于,所述用酸性蚀刻液对暴露在窗口位置的铜箔进行蚀刻的方法为:控制减铜线的蚀刻缸内Cu2+浓度110-150g/L,比重1.23-1.33,酸度1.5-3.8N,温度48-52℃,上压力控制在0.8-2.0kg/cm2,下压力控制在0.8-1.5kg/cm2,蚀刻缸长度为2m,电路板在蚀刻缸内传送速度控制在5.5-6.0m/min。

7.根据权利要求1所述的具有包覆铜层印制电路板的制作方法,其特征在于,所述步骤S2中,所述的通孔采用机械钻孔钻出,孔径≧0.2mm。

8.根据权利要求1所述的具有包覆铜层印制电路板的制作方法,其特征在于,所述步骤S4中,树脂平坦化处理的方法为:树脂塞孔后,将电路板150℃烘烤60min,待树脂固化后将电路板按以下所述研磨参数打磨2遍去除多余树脂:砂带目数600目,传送速度3m/min,磨板功率1-1.2kw。

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