[发明专利]透明导电膜与包含其的电容式触摸屏

说明书

本发明提供了一种透明导电膜与包含其的电容式触摸屏。该透明导电膜包括：第一硬化层、透明基材层、第二硬化层与非结晶ITO层。其中，透明基材层设置于第一硬化层的表面上，透明基材层的机械运行方向的收缩率大于0小于等于0.5％，垂直于机械运行方向的收缩率大于0小于等于0.1％；第二硬化层设置于透明基材层的远离第一硬化层的表面上；非结晶ITO层设置于第二硬化层的远离透明基材层的表面上。该透明导电膜具有低立体纹、低阻抗、低成本、制备工艺简单等特点。

技术领域

本发明涉及触摸屏领域，具体而言，涉及一种透明导电膜与包含其的电容式触摸屏。

背景技术

现有的电容式触摸屏用透明导电膜在蚀刻及热处理之后，会出现立体纹，无法满足部分高端客户的需求

立体纹产生原因主要是因为：(1)ITO层(氧化铟锡层)的蚀刻部分与非蚀刻部分产生了光学特性差别(包括可视光范围内的透过和反射特性，简称为色差)，从而产生立体纹路；(2)在后期的热处理工艺中，因各层的热收缩率的不同会出现涂层间应力不匹配现象，这是因为ITO层和透明基材层及硬化层之间的组成差异比较大，相互之间存在的应力较大，尤其是ITO层由加热前的非结晶态变为加热后的结晶态，会导致ITO层与透明基材层及硬化层之间的应力增大，进而造成蚀刻部分和透明基材层及硬化层之间的应力与非蚀刻部分与有机层之间的应力差别会进一步增大，从而导致立体纹的加重。

现有专利及文献主要使用热收缩率较小的硬化层与透明基材层形成透明导电膜，进一步作为电容式触摸屏的制作材料，但是，在ITO层蚀刻后，透明导电膜仍然会产生立体纹，使得电容式触摸屏不足以满足客户的需求。

因此，亟需一种低立体纹的透明导电膜。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种透明导电膜与包含其的电容式触摸屏，以解决现有技术中透明导电膜与包含其的电容式触摸屏的立体纹较严重的问题。

为了实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种透明导电膜，该透明导电膜包括：第一硬化层、透明基材层、第二硬化层与非结晶ITO层。其中，上述透明基材层设置于上述第一硬化层的表面上，上述透明基材层的机械运行方向的收缩率大于0小于等于0.5％，垂直于上述机械运行方向的收缩率大于0小于等于0.1％；第二硬化层设置于上述透明基材层的远离上述第一硬化层的表面上；非结晶ITO层，设置于上述第二硬化层的远离上述透明基材层的表面上。

进一步地，上述非结晶ITO层中Sn的重量含量为7％～30％，优选为8％～20％，更优选为15％。

进一步地，上述非结晶ITO层的厚度在10～100nm之间，优选在15～40nm之间。

进一步地，上述第二硬化层的折射率在1.59～1.80之间。

进一步地，上述第二硬化层的铅笔硬度在3B～4H之间，优选在B～3H之间。

进一步地，上述第二硬化层的厚度在0.3～10μm之间，优选在0.5～3.0μm之间。

进一步地，上述第一硬化层(10)的铅笔硬度在3B～4H之间，优选在B～3H之间。

进一步地，上述第一硬化层的厚度比上述第二硬化层的厚度大0.1～0.5μm。

进一步地，上述透明基材层的全光透过率大于85％，优选上述透明基材层的厚度在10～500μm之间，进一步优选在20～200μm之间。

根据本发明的另一方面，提供了一种电容式触摸屏，该电容式触摸屏包含上述的透明导电膜。