[发明专利]显示基板及制作方法、液晶面板的制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：

提供一显示基板，在所述显示基板的显示区域形成配向材料层；

在所述显示基板的至少部分非显示区域形成平坦化层，且所述平坦化层的顶面和所述配向材料层的顶面平齐；

对所述配向材料层进行摩擦取向，以形成配向层。

2.根据权利要求1所述显示基板的制作方法，其特征在于，所述平坦化层的材料为热熔胶。

3.根据权利要求2所述显示基板的制作方法，其特征在于，在所述显示基板的非显示区域形成平坦化层的步骤具体包括：

将溶剂型热熔胶转印到所述显示基板的非显示区域；

使形成在所述显示基板的非显示区域的所述溶剂型热熔胶中的溶剂挥发；

冷却固化挥发溶剂后的热熔胶，在所述显示基板的非显示区域上形成所述平坦化层。

4.根据权利要求2所述显示基板的制作方法，其特征在于，在所述显示基板的非显示区域形成平坦化层的步骤具体包括：

将融化后的热熔胶涂覆到所述显示基板的非显示区域；

冷却固化形成在所述显示基板的非显示区域的所述融化后的热熔胶，在所述显示基板的非显示区域上形成所述平坦化层。

5.根据权利要求1所述显示基板的制作方法，其特征在于，所述配向材料层所用到的配向材料为聚氨酯和/或聚酰亚胺。

6.根据权利要求1-5中任一项所述显示基板的制作方法，其特征在于，所述平坦化层是透明的。

7.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板采用如权利要求1～6中任一项所述的显示基板的制作方法制作而成。

8.一种液晶面板的制作方法，其特征在于，

提供两个显示基板，所述显示基板采用权利要求7中所述的显示基板，且其中一个所述显示基板为薄膜晶体管TFT阵列基板，另一个所述显示基板为彩膜基板；

采用封接材料将所述TFT阵列基板和所述彩膜基板对盒、并注入液晶，制成液晶面板。

9.根据权利要求8所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，在采用封接材料将所述TFT阵列基板和所述彩膜基板对盒、并注入液晶，制成液晶面板的步骤中，所述TFT阵列基板中的平坦化层的融化温度高于所述封接材料的固化温度，所述彩膜基板中的平坦化层的融化温度高于所述封接材料的固化温度。

10.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求7所述的显示基板。