[发明专利]显示基板及制作方法、液晶面板的制作方法、显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及其制作方法、液晶面板的制作方法、显示装置。

背景技术

薄膜晶体管(Thin Film Transistor，以下简称TFT)液晶显示器是一种被动发光的显示器，它由偏振片、彩膜基板、液晶层、TFT阵列基板和背光模组组成，其制作过程包括TFT阵列基板制作方法、液晶面板成盒方法和模组方法；其中，液晶面板成盒方法是先在TFT阵列基板的显示区域以及彩膜基板的显示区域分别形成配向材料层，然后进行摩擦取向，接下来TFT阵列基板和彩膜基板对盒以及注入液晶。

然而，由于显示基板的非显示区域和形成有配向材料层的显示基板的显示区域的高度不同，因此，当用摩擦布对显示基板的显示区域上的配向材料层进行摩擦取向时，摩擦布的摩擦面易损伤，当受损的摩擦布继续对配向材料层摩擦取向时，配向材料层上所形成的沟痕就会出现不均匀的问题，从而对液晶的取向造成影响，不利于显示装置的图像显示。

发明内容

本发明的目的在于提供一种显示基板及其制作方法、液晶面板的制作方法及其显示装置，用于克服摩擦取向时，配向材料层形成的沟痕不均匀的问题。

为了实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种显示基板的制作方法，包括：

提供一显示基板，在所述显示基板的显示区域形成配向材料层；

在所述显示基板的至少部分非显示区域形成平坦化层，且所述平坦化层的顶面和所述配向材料层的顶面平齐；

对所述配向材料层进行摩擦取向，以形成配向层。

本发明还提供了一种显示基板，所述显示基板采用上述显示基板的制作方法制作而成。

本发明还提供了一种液晶面板的制作方法，所述液晶面板的制作方法包括：提供两个显示基板，所述显示基板采用上述显示基板，且其中一个所述显示基板为薄膜晶体管TFT阵列基板，另一个所述显示基板为彩膜基板；

采用封接材料将所述TFT阵列基板和所述彩膜基板对盒、并注入液晶，制成液晶面板。

本发明还提供了一种显示装置，所述显示装置包括上述显示基板。

与现有技术相比，本发明的有益效果在于：

本发明提供的显示基板的制作方法中，在进行摩擦取向工艺之前，通过在显示基板的非显示区域形成平坦化层，使平坦化层的顶面和形成在显示基板的显示区域的配向材料层的顶面平齐，这样在用摩擦布对显示基板的显示区域上的配向材料层进行摩擦取向的过程中，就能避免摩擦布的摩擦面受到损伤，从而克服摩擦取向时，配向材料层形成的沟痕不均匀的问题。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本发明的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1为本发明实施例提供的显示基板的制作方法的流程图；

图2为本发明实施例提供的配向材料层的顶面和平坦化层的顶面平齐的示意图；

图3为本发明实施例提供的液晶面板的制作方法的流程图。

附图标记：

1-显示基板，           2-配向材料层，

3-平坦化层。

具体实施方式

为了进一步说明本发明实施例提供的一种显示基板及其制作方法、液晶面板的制作方法及其显示装置，下面结合说明书附图进行详细描述。

请参阅图1，本发明实施例提供的一种显示基板的制作方法，包括：

步骤101、提供一显示基板1，具体地，显示基板1包括显示区域和非显示区域，在显示基板1的显示区域形成配向材料层2；

步骤102、请参阅图2，在显示基板1的至少部分非显示区域形成平坦化层3，且平坦化层3的顶面和配向材料2的顶面平齐；更详细的说，形成在显示基板1的非显示区域上的平坦化层3的表面，和形成在显示基板1的显示区域上的配向材料层2的表面在同一水平面上。

步骤103、使用摩擦布的摩擦面对配向材料层2进行摩擦取向，以形成配向层。

本实施例提供的显示基板1的制作方法中，通过在显示基板1的非显示区域形成平坦化层3，使平坦化层3的顶面和形成在显示基板1的显示区域的配向材料层2的顶面平齐，这样在用摩擦布对显示基板1的显示区域上的配向材料2进行摩擦取向的过程中，就能避免摩擦布的摩擦面受到损伤，从而克服摩擦取向时，配向材料层2形成的沟痕不均匀的问题。