[发明专利]一种高温CVD设备

权利要求书

1.一种高温CVD设备，包括：设有内层侧壁与外层侧壁的双层侧壁，以及分别设置在所述双层侧壁两端的盖体，其特征在于，所述双层侧壁周向设有基准法兰，所述基准法兰沿所述双层侧壁轴向固定限位至少一端的盖体；所述盖体包括顶盖、上法兰和下法兰，且所述顶盖、上法兰、下法兰和基准法兰逐层压叠，所述上法兰和所述下法兰之间间隙可调整连接，或/和所述下法兰和所述基准法兰之间间隙可调整连接；

所述上法兰设有第一胶圈槽，所述下法兰设有朝向所述上法兰的第一凸部，所述内层侧壁的端部以及其外周设有的胶圈共同设置在所述第一胶圈槽内，所述第一凸部沿所述双层侧壁轴向压入所述第一胶圈槽并挤压所述胶圈；

所述基准法兰设有第二胶圈槽，所述下法兰设有朝向所述基准法兰的第二凸部，所述外层侧壁的端部以及其外周设有的胶圈共同设置在所述第二胶圈槽内，所述第二凸部沿双层侧壁轴向压入所述第二胶圈槽并挤压所述胶圈。

2.根据权利要求1所述的高温CVD设备，其特征在于：所述基准法兰固定在所述CVD设备外部的支撑架上。

3.根据权利要求1所述的高温CVD设备，其特征在于：所述内层侧壁和所述外层侧壁之间设有间隙，所述内层侧壁两端均伸出与外层侧壁的端部错开设置。

4.根据权利要求1所述的高温CVD设备，其特征在于：所述上法兰和下法兰分别通过胶条密封的抵在内层侧壁端部和外层侧壁端部。

5.根据权利要求1所述的高温CVD设备，其特征在于：所述双层侧壁两端均设有的基准法兰均通过同一支撑架固定，所述支撑架限定两所述基准法兰沿所述双层侧壁轴向的间距。

6.根据权利要求1所述的高温CVD设备，其特征在于：所述上法兰下端面和所述下法兰上端面之间相接触的面上设有调整凸纹，或/和所述下法兰下端面和所述基准法兰上端面之间相接触的面上设有调整凸纹。

7.根据权利要求1所述的高温CVD设备，其特征在于：所述上法兰下端面和所述下法兰上端面之间垫有若干层调整垫片，或/和所述下法兰下端面和所述基准法兰上端面之间垫有若干层调整垫片。