[发明专利]一种碱性CuCl2废蚀刻液脱铜再生方法有效

专利信息
申请号: 201510422268.9 申请日: 2015-07-17
公开(公告)号: CN105002500B 公开(公告)日: 2017-09-15
发明(设计)人: 王学文;王明玉;刘学辉 申请(专利权)人: 中南大学
主分类号: C23F1/46 分类号: C23F1/46;C22B7/00
代理公司: 长沙市融智专利事务所43114 代理人: 颜勇
地址: 410083 湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 一种 碱性 cucl sub 蚀刻 液脱铜 再生 方法
【权利要求书】:

1.一种碱性CuCl2废蚀刻液脱铜再生方法,包括以下步骤:

步骤一:结晶脱铜

将废蚀刻液的pH值调至≤7.5后,于-25℃~35℃冷却或冷冻至少0.5h,使其中的铜以氯化铜铵复盐结晶析出,过滤得氯化铜铵复盐晶体及其结晶后液;所述废蚀刻液调pH值采用60-120℃蒸发脱氨至pH≤7.5,或经60-120℃蒸发脱氨后再加酸酸化至pH≤7.5;

步骤二:铜分离回收

将步骤一所得氯化铜铵复盐直接作产品出售,或重结晶后再作产品出售;

或将步骤一所得氯化铜铵复盐加热分解,得氯化铜和氯化铵;

或将步骤一所得氯化铜铵复盐按固/液比1:2-10g/ml加水溶解,得到溶解液;将所得溶解液在槽电压1.8-2.2V,电流密度100-350A/m2的条件下直接电积生产阴极铜,电积后液用于配制蚀刻新液;或

将所得溶解液采用溶剂萃取其中的铜,使之转化为铜盐溶液,萃余液则被转化为NH4Cl溶液或NH4Cl-HCl混合溶液,所得萃余液直接用于配制蚀刻新液;或将萃余液加氨调pH至1-5后,再浓缩结晶氯化铵,所得氯化铵用于配制蚀刻新液,或作产品出售;

或将所得溶解液加入沉淀剂使其中的Cu沉淀析出,过滤得Cu的沉淀物及其沉淀后液。

2.根据权利要求1所述的一种碱性CuCl2废蚀刻液脱铜再生方法,其特征在于:所述废蚀刻液的组分包括CuCl2、NH4Cl、NH3·H2O。

3.根据权利要求1所述的一种碱性CuCl2废蚀刻液脱铜再生方法,其特征在于:加酸酸化所加的酸选自盐酸、硫酸、硝酸、磷酸中的至少一种。

4.根据权利要求1-3任意一项所述的一种碱性CuCl2废蚀刻液脱铜再生方法,其特征在于:废蚀刻液调pH≤7.5后,于-25℃~35℃冷却或冷冻0.5-24h。

5.根据权利要求4所述的一种碱性CuCl2废蚀刻液脱铜再生方法,其特征在于:结晶脱铜的具体过程为,废碱性蚀刻液经60-120℃真空蒸发强制脱氨,至溶液的pH≤7.5,或废碱性蚀刻液先经60-120℃常压蒸发,至溶液的pH≤8.3,停止蒸发,再加酸酸化至pH≤7.5,然后再经-25℃~35℃冷却或冷冻0.5-24h,使其中的Cu以氯化铜铵复盐结晶物析出,过滤得氯化铜铵复盐晶体及其结晶后液;加热蒸发出来的氨经冷却吸收得氨水,所得氨水用于配制蚀刻新液,或作产品出售。

6.根据权利要求5所述的一种碱性CuCl2废蚀刻液脱铜再生方法,其特征在于:溶解液采用溶剂萃取后得到的铜盐溶液为纯的硫酸铜溶液、硝酸铜溶液、氯化铜溶液中的一种;

对溶解液采用酸性络合萃取体系或协同萃取体系进行萃取铜,并以0.5-3.5 mol/L的H2SO4、HCl、HNO3溶液中的一种作反萃液,分别得到的硫酸铜溶液或硝酸铜溶液或氯化铜溶液经蒸发浓缩结晶,得相应铜盐结晶物;或

将所得硫酸铜溶液电积生产阴极铜,硫酸铜溶液的电积条件为:槽温44-50℃,槽电压1.8-2.2V,电流密度100-350A/m2,所得电积后液返回萃取工序循环使用。

7.根据权利要求4所述的一种碱性CuCl2废蚀刻液脱铜再生方法,其特征在于:在步骤一所得的结晶后液中加入氨水、氨气、盐酸、氯化铵中的至少一种作再生剂,使其再生成为印刷电路板蚀刻工序所需的pH≥8.5,NH4Cl浓度为50-150g/L的蚀刻新液,用于碱性蚀刻工艺过程蚀刻液的比重调整和体积补充。

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