[发明专利]一种碱性CuCl2废蚀刻液脱铜再生方法有效
申请号: | 201510422268.9 | 申请日: | 2015-07-17 |
公开(公告)号: | CN105002500B | 公开(公告)日: | 2017-09-15 |
发明(设计)人: | 王学文;王明玉;刘学辉 | 申请(专利权)人: | 中南大学 |
主分类号: | C23F1/46 | 分类号: | C23F1/46;C22B7/00 |
代理公司: | 长沙市融智专利事务所43114 | 代理人: | 颜勇 |
地址: | 410083 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 碱性 cucl sub 蚀刻 液脱铜 再生 方法 | ||
1.一种碱性CuCl2废蚀刻液脱铜再生方法,包括以下步骤:
步骤一:结晶脱铜
将废蚀刻液的pH值调至≤7.5后,于-25℃~35℃冷却或冷冻至少0.5h,使其中的铜以氯化铜铵复盐结晶析出,过滤得氯化铜铵复盐晶体及其结晶后液;所述废蚀刻液调pH值采用60-120℃蒸发脱氨至pH≤7.5,或经60-120℃蒸发脱氨后再加酸酸化至pH≤7.5;
步骤二:铜分离回收
将步骤一所得氯化铜铵复盐直接作产品出售,或重结晶后再作产品出售;
或将步骤一所得氯化铜铵复盐加热分解,得氯化铜和氯化铵;
或将步骤一所得氯化铜铵复盐按固/液比1:2-10g/ml加水溶解,得到溶解液;将所得溶解液在槽电压1.8-2.2V,电流密度100-350A/m2的条件下直接电积生产阴极铜,电积后液用于配制蚀刻新液;或
将所得溶解液采用溶剂萃取其中的铜,使之转化为铜盐溶液,萃余液则被转化为NH4Cl溶液或NH4Cl-HCl混合溶液,所得萃余液直接用于配制蚀刻新液;或将萃余液加氨调pH至1-5后,再浓缩结晶氯化铵,所得氯化铵用于配制蚀刻新液,或作产品出售;
或将所得溶解液加入沉淀剂使其中的Cu沉淀析出,过滤得Cu的沉淀物及其沉淀后液。
2.根据权利要求1所述的一种碱性CuCl2废蚀刻液脱铜再生方法,其特征在于:所述废蚀刻液的组分包括CuCl2、NH4Cl、NH3·H2O。
3.根据权利要求1所述的一种碱性CuCl2废蚀刻液脱铜再生方法,其特征在于:加酸酸化所加的酸选自盐酸、硫酸、硝酸、磷酸中的至少一种。
4.根据权利要求1-3任意一项所述的一种碱性CuCl2废蚀刻液脱铜再生方法,其特征在于:废蚀刻液调pH≤7.5后,于-25℃~35℃冷却或冷冻0.5-24h。
5.根据权利要求4所述的一种碱性CuCl2废蚀刻液脱铜再生方法,其特征在于:结晶脱铜的具体过程为,废碱性蚀刻液经60-120℃真空蒸发强制脱氨,至溶液的pH≤7.5,或废碱性蚀刻液先经60-120℃常压蒸发,至溶液的pH≤8.3,停止蒸发,再加酸酸化至pH≤7.5,然后再经-25℃~35℃冷却或冷冻0.5-24h,使其中的Cu以氯化铜铵复盐结晶物析出,过滤得氯化铜铵复盐晶体及其结晶后液;加热蒸发出来的氨经冷却吸收得氨水,所得氨水用于配制蚀刻新液,或作产品出售。
6.根据权利要求5所述的一种碱性CuCl2废蚀刻液脱铜再生方法,其特征在于:溶解液采用溶剂萃取后得到的铜盐溶液为纯的硫酸铜溶液、硝酸铜溶液、氯化铜溶液中的一种;
对溶解液采用酸性络合萃取体系或协同萃取体系进行萃取铜,并以0.5-3.5 mol/L的H2SO4、HCl、HNO3溶液中的一种作反萃液,分别得到的硫酸铜溶液或硝酸铜溶液或氯化铜溶液经蒸发浓缩结晶,得相应铜盐结晶物;或
将所得硫酸铜溶液电积生产阴极铜,硫酸铜溶液的电积条件为:槽温44-50℃,槽电压1.8-2.2V,电流密度100-350A/m2,所得电积后液返回萃取工序循环使用。
7.根据权利要求4所述的一种碱性CuCl2废蚀刻液脱铜再生方法,其特征在于:在步骤一所得的结晶后液中加入氨水、氨气、盐酸、氯化铵中的至少一种作再生剂,使其再生成为印刷电路板蚀刻工序所需的pH≥8.5,NH4Cl浓度为50-150g/L的蚀刻新液,用于碱性蚀刻工艺过程蚀刻液的比重调整和体积补充。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中南大学,未经中南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510422268.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 一种Nd<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-Yb<sub>2</sub>O<sub>3</sub>改性的La<sub>2</sub>Zr<sub>2</sub>O<sub>7</sub>-(Zr<sub>0.92</sub>Y<sub>0.08</sub>)O<sub>1.96</sub>复相热障涂层材料
- 无铅[(Na<sub>0.57</sub>K<sub>0.43</sub>)<sub>0.94</sub>Li<sub>0.06</sub>][(Nb<sub>0.94</sub>Sb<sub>0.06</sub>)<sub>0.95</sub>Ta<sub>0.05</sub>]O<sub>3</sub>纳米管及其制备方法
- 磁性材料HN(C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>)<sub>3</sub>·[Co<sub>4</sub>Na<sub>3</sub>(heb)<sub>6</sub>(N<sub>3</sub>)<sub>6</sub>]及合成方法
- 磁性材料[Co<sub>2</sub>Na<sub>2</sub>(hmb)<sub>4</sub>(N<sub>3</sub>)<sub>2</sub>(CH<sub>3</sub>CN)<sub>2</sub>]·(CH<sub>3</sub>CN)<sub>2</sub> 及合成方法
- 一种Bi<sub>0.90</sub>Er<sub>0.10</sub>Fe<sub>0.96</sub>Co<sub>0.02</sub>Mn<sub>0.02</sub>O<sub>3</sub>/Mn<sub>1-x</sub>Co<sub>x</sub>Fe<sub>2</sub>O<sub>4</sub> 复合膜及其制备方法
- Bi<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-TeO<sub>2</sub>-SiO<sub>2</sub>-WO<sub>3</sub>系玻璃
- 荧光材料[Cu<sub>2</sub>Na<sub>2</sub>(mtyp)<sub>2</sub>(CH<sub>3</sub>COO)<sub>2</sub>(H<sub>2</sub>O)<sub>3</sub>]<sub>n</sub>及合成方法
- 一种(Y<sub>1</sub>-<sub>x</sub>Ln<sub>x</sub>)<sub>2</sub>(MoO<sub>4</sub>)<sub>3</sub>薄膜的直接制备方法
- 荧光材料(CH<sub>2</sub>NH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>ZnI<sub>4</sub>
- Li<sub>1.2</sub>Ni<sub>0.13</sub>Co<sub>0.13</sub>Mn<sub>0.54</sub>O<sub>2</sub>/Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>复合材料的制备方法