[发明专利]一种碱性CuCl2废蚀刻液脱铜再生方法有效

专利信息
申请号: 201510422268.9 申请日: 2015-07-17
公开(公告)号: CN105002500B 公开(公告)日: 2017-09-15
发明(设计)人: 王学文;王明玉;刘学辉 申请(专利权)人: 中南大学
主分类号: C23F1/46 分类号: C23F1/46;C22B7/00
代理公司: 长沙市融智专利事务所43114 代理人: 颜勇
地址: 410083 湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 一种 碱性 cucl sub 蚀刻 液脱铜 再生 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于化工冶金领域,具体涉及一种碱性蚀刻液脱铜再生方法。

背景技术

碱性氯化铜蚀刻液(CuCl2-NH4Cl-NH3·H2O)因其蚀刻速度快,侧蚀小,溶铜能力大,蚀刻速率容易控制,而被广泛用于电镀抗蚀印制板的蚀刻。随着蚀刻的进行,蚀刻液中铜含量不断增加,比重逐渐升高,当蚀刻液中铜的浓度达到一定高度时就要及时加以调整。工业生产采用排放比重过高的蚀刻液,添加新的补加液来控制蚀刻液的比重在允许范围内。排出的高比重蚀刻液中含铜高达 150~170g/L Cu,具有很高的综合回收价值。

国内外用于回收碱性蚀刻液中铜的方法主要有电解法、置换法、溶剂萃取法及化学沉淀法。电解法虽然能有效脱除其中的铜,但电解过程随着铜离子浓度的降低电的有效利用率低越来越低,电耗高,易产生Cl2污染环境。置换法得到的海绵铜质量差,且溶液中的铜难以置换完全。溶剂萃取法铜的萃取蚀率不高,一般萃取率只有~50%,返回蚀刻工序溶液中残留的铜浓度太高,蚀刻速度慢。化学沉淀法虽然工艺简单,但产生大量的含Cl-的废水,环保压力大,也不是一种理想的回收铜的方法。

发明内容

本发明就是针对现有技术的不足,提出的一种碱性CuCl2废蚀刻液脱铜再生方法。

本发明一种碱性CuCl2废蚀刻液脱铜再生方法,包括以下步骤:

步骤一:结晶脱铜

将印刷电路板蚀刻工序排出的废蚀刻液的pH值调至≤7.5后,于-25℃~35 ℃冷却或冷冻至少0.5h,使其中的铜以氯化铜铵复盐结晶析出,过滤得氯化铜铵复盐晶体及其结晶后液;

步骤二:铜分离回收

将步骤一所得氯化铜铵复盐直接作产品出售,或重结晶后再作产品出售;

或将步骤一所得氯化铜铵复盐加热至150-500℃分解,得氯化铜和氯化铵;

或将步骤一所得氯化铜铵复盐按固/液比1:2-10g/ml加水溶解,所得溶解液在槽电压1.8-2.2V,电流密度100-350A/m2的条件下直接电积生产阴极铜,电积后液用于配制蚀刻新液;

或将步骤一所得氯化铜铵复盐按固/液比1:2-10g/ml加水溶解,所得溶解液采用溶剂萃取其中的铜,使之转化为铜盐溶液,萃余液则被转化为NH4Cl溶液或NH4Cl-HCl混合溶液,所得萃余液直接用于配制蚀刻新液;或将萃余液加氨调pH至1-5后,再浓缩结晶氯化铵,所得氯化铵用于配制蚀刻新液,或作产品出售;

或将步骤一所得氯化铜铵复盐按固/液比1:2-10g/ml加水溶解,所得溶解液加入沉淀剂使其中的Cu沉淀析出,过滤得Cu的沉淀物及其沉淀后液。

本发明一种碱性CuCl2废蚀刻液脱铜再生方法,所述废蚀刻液主要由CuCl2、 NH4Cl、NH3·H2O组成,其中铜含量为70-170g/L。

本发明一种碱性CuCl2废蚀刻液脱铜再生方法,所述废蚀刻液调pH值采用蒸发脱氨至pH≤7.5,或经蒸发脱氨后再加酸酸化至pH≤7.5,或直接加酸酸化至pH≤7.5。

本发明一种碱性CuCl2废蚀刻液脱铜再生方法,所加的酸选自盐酸、硫酸、硝酸、磷酸中的至少一种。

本发明一种碱性CuCl2废蚀刻液脱铜再生方法,废蚀刻液调pH≤7.5后,于 -25℃~35℃冷却或冷冻0.5-24h。

本发明一种碱性CuCl2废蚀刻液脱铜再生方法,溶解液采用溶剂萃取后得到的铜盐溶液为纯的硫酸铜溶液、硝酸铜溶液、氯化铜溶液中的一种。

本发明一种碱性CuCl2废蚀刻液脱铜再生方法,在步骤一所得的结晶后液中加入氨水、氨气、盐酸、氯化铵中的至少一种作再生剂,使其再生成为印刷电路板蚀刻工序所需的pH≥8.5,NH4Cl浓度为50-150g/L的蚀刻新液,用于碱性蚀刻工艺过程蚀刻液的比重调整和体积补充。

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