[发明专利]高洁净真空位移台在审
申请号: | 201510428821.X | 申请日: | 2015-07-20 |
公开(公告)号: | CN105171701A | 公开(公告)日: | 2015-12-23 |
发明(设计)人: | 朱政豪;庞向阳;时双;郝艳飞 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
主分类号: | B25H1/00 | 分类号: | B25H1/00 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 张泽纯;张宁展 |
地址: | 201800 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 洁净 真空 位移 | ||
技术领域
本发明涉及高真空度下精密控制设备,特别是一种高洁净真空位移台。
背景技术
常见的真空位移台通常是真空电机带动滚珠丝杆在直线导轨上运动。其结构一般包括:真空电机1、中间法兰2、电机安装板3、底座4、滑座6、端盖板9、滚珠丝杆10和直线导轨12。由于运动件滚珠丝杆10、导轨12需要真空润滑油来润滑,所以会有润滑油挥发产生污染。一些厂商采用部分密闭结构,如图1,用侧罩5、密封条7、外罩8形成部分密闭腔,将位移台中的滚珠丝杆和导轨与外界隔离,以减少润滑油对外挥发。但是,滑座6和密封条7之间存在间隙,仍然会有部分润滑油从腔内挥发到外界,所以该类真空位移台只能在洁净度要求不高的条件下进行使用。许多微电子、IT产品要求在超洁净真空环境下完成加工制造,加工区域对金属粉尘以及有机物的含量有着极其严格的标准。在光学领域,空间滤波器等高真空腔体中如果润滑油脂挥发到真空腔体,会对真空腔体上的光学元件产生污染,可导致严重的后果。虽然真空润滑油脂的挥发量较少,但仍然很难满足这类高真空腔体的高洁净度要求。因此必须在源头上减少润滑油脂的挥发,需要对现有的真空位移台进行改进创造,提高其洁净度。
发明内容
本发明的目的是提供一套高洁净真空位移台,以解决背景技术中存在真空环境下润滑油脂挥发出有机物造成污染的问题,满足真空装置的超洁净环境要求。
本发明的技术解决方案如下:
一种高洁净真空位移台,包括真空电机、中间法兰、电机安装板、底座、侧罩、滑座、密封条、外罩、端盖板和滚珠丝杆,所述的底座、侧罩、密封条和外罩形成密闭腔,其特点是在密闭腔内安装有吸气剂。
所述的吸气剂采用非蒸散吸气材料。
在所述的底座上放置绝热块,在绝热块上设有电阻丝,该电阻丝的两端与电源相通,所述的非蒸散吸气材料置于所述的电阻丝上。
吸气剂用于吸附挥发的润滑油脂,减少油脂挥发到装置外。活性气体分子打到吸气剂表面并分解,产生化学吸附。吸气剂工作一段时间或暴露大气,会在吸气剂颗粒表面形成了一层由氧化物和碳化物组成的钝化层,阻止活性气体分子停止向吸气剂体内扩散。为了恢复吸气剂的吸气功能,电阻丝通电加热吸气剂使其激活,吸附在吸气剂颗粒表面的气体分子向体内扩散,从而消除钝化层,恢复吸气剂的吸气能力。吸气剂可反复激活数十次,直到全部饱和为止。
本发明对比已有技术具有以下创新点和优点:使用了真空吸气剂,可长时间吸附真空润滑脂产生的挥发性有机污染物,维持装置的高洁净度和真空度。
附图说明
图1为普通真空位移台的最终装配示意图;
图2为本发明高洁净真空位移台内部结构示意图;
图3为吸气剂安装的示意图。
具体实施方式
请参阅图1、图2和图3,图1为普通真空位移台的最终装配示意图;图2为本发明高洁净真空位移台内部结构示意图;图3为吸气剂安装的示意图。由图可见,本发明的高洁净真空位移台包括:真空电机1、中间法兰2、电机安装板3、底座4、侧罩5、滑座6、密封条7、外罩8、端盖板9、滚珠丝杆10、真空吸气剂11、直线导轨12、绝热块13、电阻丝14、电线15。即在普通的真空位移台腔内安装真空吸气剂11、绝热块13、电阻丝14和电线15。其具体位置如下:真空吸气剂11的下面有电阻丝14,放在绝热块13上,固定在底座4上。吸气剂11可保持腔体的真空度、吸收真空油脂产生的挥发性有机物。使用时,接通电源,电阻丝将吸气剂加热至350℃—500℃并持续30-60分钟,使吸气剂激活,开始吸收活性气体。吸气剂可以将真空器件的真空度提高至10-4帕以上,同时对挥发的有机污染物进行吸附,使真空腔体保持高真空度和高洁净度,满足空间滤波器等高真空装置对洁净度和真空度的要求。吸气剂吸收活性气体达到饱和时,可对其进行加热再生,使其表面活性恢复,再次吸附有机污染物。
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