[发明专利]多晶硅片制绒及清洗方法

权利要求书

1.一种多晶硅片制绒及清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：

将多晶硅片至于2℃～10℃的混合液中浸泡1分钟～2分钟进行制绒，所述混合液由硝酸、氢氟酸及冰乙酸组成；

将制绒后的所述多晶硅片依次使用水、无机碱溶液、混合酸液及水进行清洗，其中，所述无机碱溶液的温度为48℃～52℃，所述混合酸液由盐酸和氢氟酸组成；及

将清洗后的多晶硅片进行干燥。

2.根据权利要求1所述的多晶硅片制绒及清洗方法，其特征在于，所述混合液由体积比为15～14:5～4:2～1.5的硝酸、氢氟酸及冰乙酸组成，其中，所述硝酸的质量浓度为65%～68%，所述氢氟酸的质量浓度为48.4%～49.6%，所述冰乙酸的质量浓度为99.8%～99.9%。

3.根据权利要求1所述的多晶硅片制绒及清洗方法，其特征在于，所述混合酸液中，所述盐酸与所述氢氟酸的体积比为2:1。

4.根据权利要求1所述的多晶硅片制绒及清洗方法，其特征在于，所述混合酸液中所述盐酸的质量浓度为36%～38%，所述氢氟酸的质量浓度为48.4%～49.6%。

5.根据权利要求1所述的多晶硅片制绒及清洗方法，其特征在于，所述无机碱溶液的质量浓度为12%～15%。

6.根据权利要求1所述的多晶硅片制绒及清洗方法，其特征在于，所述进行干燥的方法为：使用压缩空气吹干。

7.根据权利要求1所述的多晶硅片制绒及清洗方法，其特征在于，将制绒后的所述多晶硅片使用水清洗时，使用超纯水喷淋清洗。

8.根据权利要求1所述的多晶硅片制绒及清洗方法，其特征在于，所述无机碱溶液选自氢氧化钾溶液及氢氧化钠溶液中的至少一种。