[发明专利]显影方法和显影装置

权利要求书

1.一种显影方法，其使配置于基板的表面上且曝光了的抗蚀剂膜显影而形成抗蚀剂图案，所述显影方法的特征在于，包括：

使所述基板绕与水平地保持的所述基板的表面正交的方向上延伸的旋转轴旋转，并且从位于所述基板的上方的排出口将显影液排出到所述抗蚀剂膜上，使显影液遍布于所述抗蚀剂膜的表面上的步骤；和

将具有与所述基板的表面相对的相对面的液体接触部件配置于所述基板的表面之中的作为在先从所述排出口进行了显影液的供给的区域的在先区域的上方，使所述液体接触部件的所述相对面与所述显影液接触，并且使所述液体接触部件在所述在先区域的上方静止规定时间，以利用所述液体接触部件的存在而将所述显影液保持在所述液体接触部件的所述相对面与所述抗蚀剂膜之间的步骤。

2.如权利要求1所述的显影方法，其特征在于：

在使显影液遍布于所述抗蚀剂膜的表面上的所述步骤中，使所述排出口从所述基板的周缘向所述旋转轴移动。

3.如权利要求1所述的显影方法，其特征在于：

在使显影液遍布于所述抗蚀剂膜的表面上的所述步骤中，使所述排出口从所述旋转轴向所述基板的周缘移动。

4.如权利要求1～3中任一项所述的显影方法，其特征在于：

在将所述液体接触部件配置于所述在先区域的上方的所述步骤中，对所述液体接触部件施加正电位。

5.如权利要求1～3中任一项所述的显影方法，其特征在于：

所述基板的旋转速度是5转/分钟～100转/分钟。

6.如权利要求1～3中任一项所述的显影方法，其特征在于：

所述抗蚀剂膜的表面与所述液体接触部件的所述相对面的离开距离是0.1mm～2.0mm。

7.如权利要求1～3中任一项所述的显影方法，其特征在于：

在将所述液体接触部件配置于所述在先区域的上方的所述步骤中，按照所述基板的表面之中从所述排出口供给了显影液的区域的顺序，使所述液体接触部件在所述基板的表面的上方移动。

8.如权利要求1～3中任一项所述的显影方法，其特征在于：

所述排出口形成于所述液体接触部件的所述相对面。

9.如权利要求1～3中任一项所述的显影方法，其特征在于：

在与所述液体接触部件分体设置的排出喷嘴形成有所述排出口。

10.一种显影装置，其使配置于基板的表面上且被曝光了的抗蚀剂膜显影而形成抗蚀剂图案，所述显影装置的特征在于，包括：

旋转保持部，其将所述基板保持为水平，并且使所述基板绕与所述基板的表面正交的方向上延伸的旋转轴旋转；

将显影液排出到所述抗蚀剂膜上的排出口；

具有与所述基板的表面相对的相对面的液体接触部件；

使所述液体接触部件移动的移动机构；和

控制部，其控制所述移动机构，使得所述液体接触部件位于所述显影液被供给到了所述抗蚀剂膜上的状态下的所述基板的表面之中要调整所述抗蚀剂图案的线宽的规定区域的上方，使所述液体接触部件的所述相对面与所述显影液接触，并且使所述液体接触部件在所述规定区域的上方静止规定时间，以利用所述液体接触部件的存在而将所述显影液保持在所述液体接触部件的所述相对面与所述抗蚀剂膜之间。

11.如权利要求10所述的显影装置，其特征在于：

所述液体接触部件呈柱状或者板状。

12.如权利要求10或者11所述的显影装置，其特征在于：

在所述液体接触部件的周缘设置有从所述相对面向所述基板的表面延伸的环状的突条部。

13.如权利要求10或者11所述的显影装置，其特征在于：

在所述液体接触部件的所述相对面设置有从所述相对面向所述基板的表面延伸的多个突起部。