[发明专利]掩膜有效
| 申请号： | 201510441986.0 | 申请日： | 2015-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN105039905B | 公开（公告）日： | 2017-11-24 |
| 发明（设计）人： | 陈瑞祥 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 | 代理人： | 梁挥,鲍俊萍 |
| 地址： | 中国台湾新竹科*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 掩膜 | ||
1.一种掩膜，其特征在于，包括：
多个图案化结构，沿一预定方向接续排列，其中各该图案化结构包含：
一开口部，具有阵列排列的多个贯穿开口；以及
一薄化部，环绕该开口部设置，该薄化部的外边界具有大致平行于该预定方向且互相对应的位于该开口部两侧的一侧边及另一侧边，且该薄化部的外边界与该开口部的边界之间所围设的区域面积以定义出该薄化部，该开口部的边界围成非矩形；以及
一周边区，该周边区环绕该些图案化结构设置，且该薄化部的厚度小于该周边区的厚度。
2.根据权利要求1所述的掩膜，其特征在于，该薄化部的厚度为该周边区的厚度的35％至75％。
3.根据权利要求1所述的掩膜，其特征在于，该掩膜为长条状，且该长条状的延伸方向平行于该预定方向。
4.根据权利要求1所述的掩膜，其特征在于，该薄化部的外边界围成矩形。
5.根据权利要求1所述的掩膜，其特征在于，该开口部的边界至该薄化部的外边界的距离沿该预定方向的变化是先逐渐减少再逐渐增加。
6.根据权利要求1所述的掩膜，其特征在于，该开口部包括多条细线段，该些细线段连接成网格状以定义出该些贯穿开口。
7.根据权利要求6所述的掩膜，其特征在于，该些细线段的厚度大于该薄化部的厚度。
8.根据权利要求6所述的掩膜，其特征在于，该些细线段的厚度等于该周边区的厚度。
9.根据权利要求1所述的掩膜，其特征在于，该些图案化结构与该周边区由一薄片图案化而成。
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