[发明专利]掩膜

说明书

技术领域

本发明是有关于一种掩膜，且特别是有关于一种蒸镀工艺用的掩膜。

背景技术

有机电致发光显示器(Organic Light Emitting Diode,OLED)以其自发光、广视角、省电、程序简易、低成本、操作温度广泛、高应答速度以及全彩化等等的优点，使其具有极大的潜力，因此可望成为下一代平面显示器的主流。有机电致发光显示器的制作方法一般是采用蒸镀的方式将有机材料形成于基板上，并且蒸镀过程当中可以设置掩膜于基板与蒸镀源之间以实现图案化蒸镀层的制作。

蒸镀用金属掩膜(Fine metal mask,FMM)是将金属薄板蚀刻出微细开口区域而构成的，且蚀刻后金属之间的空隙即为蒸镀开口，可供蒸镀材料通过而附着于基板上。蒸镀工艺当中，金属掩膜与欲蒸镀的基板间不能有间隙，以免造成蒸镀材料外溢而产生阴影效应(Shadow effect)。因此，蒸镀工艺中除了需以机台中的固定结构固定金属掩膜外，还会在基板上方设置磁铁板，让金属掩膜因磁力的吸引而可以紧密的服贴于基板上。

固定结构固定金属掩膜时主要是夹持住金属掩膜的两端以将金属掩膜支撑与展开。此时，金属掩膜所受到的应力可能因为金属掩膜本身的图案设计(例如设计蒸镀开口的分布)而有不同的分布情形。当金属掩膜所受应力分布不均匀时，金属掩膜会有皱褶而无法服贴于基板上。因此，蒸镀工艺中往往需要降低金属掩膜发生皱褶的机率。

发明内容

本发明提供一种掩膜，不容易在应用于蒸镀制成时产生皱折。

本发明的一种掩膜包括多个图案化结构以及周边区。图案化结构沿预定方向接续排列。各图案化结构包含开口部以及薄化部。开口部具有阵列排列的多个贯穿开口。薄化部环绕开口部设置。薄化部的外边界具有大致平行于预定方向且互相对应的一侧边及另一侧边，且薄化部的外边界与开口部的边界之间所围设的区域面积以定义出薄化部。周边区环绕这些图案化结构设置，且薄化部的厚度小于周边区的厚度。

其中，该薄化部的厚度为该周边区的厚度的35％至75％。

其中，该掩膜为长条状，且该长条状的延伸方向平行于该预定方向。

其中，该开口部的边界围成非矩形。

其中，该薄化部的外边界围成矩形。

其中，该开口部的边界至该薄化部的外边界的距离沿该预定方向的变化是先逐渐减少再逐渐增加。

其中，该开口部包括多条细线段，该些细线段连接成网格状以定义出该些贯穿开口。

其中，该些细线段的厚度大于该薄化部的厚度。

其中，该些细线段的厚度等于该周边区的厚度。

其中，该些图案化结构与该周边区由一薄片图案化而成。

基于上述，本发明实施例的掩膜具有多个图案化结构，且图案化结构由内而外设置有开口部与薄化部，藉由薄化部的薄化厚度来缓冲与散布拉伸应力，而改善掩膜因外力拉张而产生皱褶的现象。

以下结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述，但不作为对本发明的限定。

附图说明

图1为本发明一实施例的掩膜的局部上视示意图。

图2为图1中区域X的放大示意图。

图3为本发明一实施例的掩膜局部的剖面示意图。

图4为本发明另一实施例的掩膜的局部上视示意图。

图5为图4中区域X的放大示意图。

图6为本发明又一实施例的掩膜的局部上视示意图。

图7为图6中区域X的放大示意图。

图8为本发明再一实施例的掩膜的局部上视示意图。

图9为图8中区域X的放大示意图。

图10为本发明一实施例的掩膜的局部上视示意图。

图11为图10中区域X的放大示意图。

图12为本发明另一实施例的掩膜的局部上视示意图。

图13为图12中区域X的放大示意图。

100、100A～100E：掩膜

100a、100b：两端

110：图案化结构

112、112A～112E：开口部

112a、112aA～112aE：边界

114：薄化部

114a：外边界

120：周边区

A-A’：剖线

D1、D2：方向

d、x、y：距离

E1、E2：侧边

S：细线段

T1～T3：厚度

P：贯穿开口