[发明专利]一种阵列基板及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201510442417.8 申请日: 2015-07-24
公开(公告)号: CN105185786B 公开(公告)日: 2018-11-27
发明(设计)人: 刘国和;祝秀芬 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1362
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 阵列 及其 制作方法
【说明书】:

发明提供一种阵列基板及其制作方法,所述方法包括:在衬底基板上制作开关阵列层;在所述开关阵列层上形成色阻层,所述色阻层包括红色彩膜、绿色彩膜、蓝色彩膜,所述色阻层上形成有过孔;在色阻层上形成透明导电层;以及在所述透明导电层上形成遮光层。本发明的阵列基板及其制作方法,通过在制作透明导电层之后制作黑色矩阵,防止同时在黑色矩阵和色阻层上制作过孔时,容易造成孔的尺寸偏差,避免透明导电层发生破裂。

【技术领域】

本发明涉及液晶显示器技术领域,特别是涉及一种阵列基板及其制作方法。

【背景技术】

如图1所示,现有的阵列基板:譬如为BOA(BM on Array)基板,BOA基板是在阵列基板上制作彩色滤光膜和黑色矩阵,阵列基板包括:衬底基板11、第一金属层12位于衬底基板11上,包括栅极;栅绝缘层13部分位于第一金属层12上,用于隔离所述第一金属层12和有源层14;有源层14部分位于栅绝缘层13上,用于形成沟道;第二金属层15位于有源层14上,包括源极、漏极;第二绝缘层16,位于第二金属层15上;色阻层17,位于所述第二绝缘层16上,色阻层和遮光层上形成有过孔18;以及黑色矩阵层19位于色阻层17上,透明导电层20部分位于黑色矩阵层19上。

为了使透明导电层与第二金属层接触,需要分别在色阻层和遮光层上设置过孔,且在色阻层设置过孔后,使得孔内的遮光层比较厚,不利于遮光层的过孔的制作,其次会使得色阻层上的孔和遮光层上孔的位置出现偏差,使得后续的透明导电层容易产生裂缝,影响显示效果。

因此,有必要提供一种阵列基板及其制作方法,以解决现有技术所存在的问题。

【发明内容】

本发明的目的在于提供一种阵列基板及其制作方法,以解决现有技术中遮光层和色阻层的过孔位置容易发生偏差,容易使得透明导电层产生裂缝,显示效果差的技术问题。

为解决上述技术问题,本发明构造了一种阵列基板的制作方法,其包括:

在衬底基板上制作开关阵列层,所述开关阵列层包括第一金属层、有源层、第二金属层;其中对所述第一金属层进行图形化处理形成多个栅极,对所述第二金属层进行图形化处理形成多个源极和多个漏极,所述有源层用于形成沟道;

在所述开关阵列层上形成色阻层,所述色阻层包括红色彩膜、绿色彩膜、蓝色彩膜,所述色阻层上形成有过孔;

在所述色阻层上形成透明导电层;以及

在所述透明导电层上形成遮光层。

在本发明的阵列基板的制作方法中,在所述透明导电层上方的过孔内也填充有所述遮光层。

在本发明的阵列基板的制作方法中,所述遮光层为黑色矩阵。

在本发明的阵列基板的制作方法中,所述方法还包括:在所述遮光层上形成第一绝缘层。

在本发明的阵列基板的制作方法中,所述第一绝缘层的厚度小于等于0.2微米。

在本发明的阵列基板的制作方法中,所述透明导电层通过所述过孔与所述第二金属层连接。

本发明还提供一种阵列基板,其包括:

衬底基板;

开关阵列层,位于所述衬底基板上,所述开关阵列层包括第一金属层、有源层、第二金属层;其中所述第一金属层包括多个栅极,所述第二金属层包括多个源极和多个漏极,所述有源层用于形成沟道;

色阻层,位于所述开关阵列层上,所述色阻层包括红色彩膜、绿色彩膜、蓝色彩膜,所述色阻层上形成有过孔;

透明导电层,位于所述色阻层上;以及

遮光层,位于所述透明导电层上。

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