[发明专利]膜形成装置及膜形成方法有效

专利信息
申请号: 201510450812.0 申请日: 2015-07-28
公开(公告)号: CN105499069B 公开(公告)日: 2019-03-08
发明(设计)人: 冈本裕司 申请(专利权)人: 住友重机械工业株式会社
主分类号: B05C5/02 分类号: B05C5/02;B05C9/12;B05D5/00
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 温旭;郝传鑫
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 形成 装置 方法
【说明书】:

本发明提供一种无需进行膜形成后的基板表面的图像分析即可去除卫星液滴的膜形成装置。从与保持于载物台的基板对置的喷嘴头朝向基板吐出经液滴化的膜材料。移动机构使保持于载物台的基板和喷嘴头中的一个相对于另一个移动。存储装置存储待形成膜的图像数据及膜厚补正信息。控制装置根据图像数据控制喷嘴头及移动机构,由此在基板上形成膜。数据通过输入装置输入到控制装置。若从输入装置输入有膜厚指令值,则控制装置根据膜厚补正信息来补正膜厚指令值,由此计算比膜厚指令值厚的膜厚目标值,并且控制装置控制喷嘴头及移动机构以形成相当于膜厚目标值厚度的膜。

本申请主张基于2014年10月10日申请的日本专利申请第2014-208562号的优先权。该日本申请的全部内容通过参考援用于本说明书中。

技术领域

本发明涉及一种从喷嘴头吐出经液滴化的膜材料从而在基板上形成膜的膜形成装置及膜形成方法。

背景技术

已知有从喷嘴头吐出阻焊剂的液滴以在印刷基板上形成阻焊剂膜的方法(专利文献1)。从喷嘴头的喷嘴孔所吐出的液滴分离的小液滴有时会着落于偏离目标地点的位置。若小液滴着落于阻焊剂膜的开口部的内侧,则在开口部内形成阻焊剂的微小的区域(以下,称为“卫星液滴”)。

已知通过向卫星液滴照射激光束来去除卫星液滴的技术(专利文献2)。由此,能够抑制阻焊剂膜形成工序中的成品率的下降。

专利文献1:日本特开平7-263845号公报

专利文献2:日本特开2012-96286号公报

为了执行通过激光照射来去除卫星液滴的方法,需要具有拍摄形成有阻焊剂膜的基板的表面的图像传感器及根据所拍摄的图像检测卫星液滴的位置的图像分析装置。

发明内容

本发明的目的在于提供一种无需进行膜形成后的基板表面的图像分析即可去除卫星液滴的膜形成装置。本发明的另一目的在于提供一种无需进行膜形成后的基板表面的图像分析即可去除卫星液滴的膜形成方法。

根据本发明的一种观点,提供一种膜形成装置,其具有:

载物台,用于保持基板;

喷嘴头,与保持于所述载物台的所述基板对置,并朝向所述基板吐出经液滴化的膜材料;

移动机构,使保持于所述载物台的所述基板与所述喷嘴头中的一个相对于另一个移动;

存储装置,存储待形成膜的图像数据及膜厚补正信息;

控制装置,根据所述图像数据控制所述喷嘴头及所述移动机构,由此在所述基板形成具有所述图像数据所定义的图案的膜;及

输入装置,用于向所述控制装置输入数据,

若从所述输入装置输入有膜厚指令值,则所述控制装置根据所述膜厚补正信息补正所述膜厚指令值,由此计算比所述膜厚指令值厚的膜厚目标值,

并且所述控制装置控制所述喷嘴头及所述移动机构,以形成相当于所述膜厚目标值厚度的膜。

根据本发明的另一种观点,提供一种膜形成方法,其具有如下工序:

根据图像数据从喷嘴头朝向基板吐出膜材料的液滴,由此形成具有所述图像数据所定义的图案的膜;及

对形成有所述膜的所述基板的整个区域进行等离子体处理,由此去除附着于不必要区域的所述膜材料。

通过等离子体处理能够去除附着于不必要区域的膜材料(卫星液滴)。由于对基板的整个区域进行等离子体处理,因此无需进行用于确定卫星液滴的位置的图像分析等。

附图说明

图1为实施例的膜形成装置的概要图。

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