[发明专利]一种双通道滤波器

说明书

技术领域

本发明涉及一种光学薄膜技术，具体来说就是一种双通道滤波器的制作方法。

背景技术

随着电子产品在人们生活中的广泛应用，各种新的功能层出不穷，随着智能手机各种功能和特性的不断完善，手机的照相功能很大程度上替代了市场上原来照相机的功能，这在一定程度上使得照相机逐渐退出市场，而手机的照相镜头中，一个重要光学薄膜元件，就是在可见区420~645nm透过，700~1100nm截止。同时，还有一种新型的手势功能，它可以通过镜头识别人的手势达到人机互动的功能，这种功能的要求在波长865nm处有高的透过率，而其它波长截止，这样就提出一种新型的光学薄膜滤波器，能够同时满足两种功能的滤波器，它的具体要求为：可见区域420~645nm透过，近红外区域845~900nm透过，工作角度为0~24度，通带区域的透过率平均>95%，0 度时近红外的通带的中心波长872nm，透过90%的波长为845~900nm；可见区的中心波长为535nm，透过90%的波长为420~645nm，透过50%的波长为650nm，透过率80%~20%的波长<20nm，近红外通带的24 度的中心波长的漂移<23nm，35 度的中心波长的漂移<45nm，700~820nm和925~1050nm透过率峰值<3%，平均值<1%。

发明内容

针对上述技术问题，本发明公开一种双通道滤波器，其制作方法特征是：

①以玻璃为基板，表面的质量优于60/40；

②镀膜材料为SiO₂和TiO₂；

③膜系结构为基板两个表面上分别沉积多层薄膜，第一膜系为38层，由内到外的材料及厚度分别为TiO₂层14nm、SiO₂层36nm、TiO₂层134nm、SiO₂层19nm、TiO₂层139nm、SiO₂层25nm、TiO₂层133nm、SiO₂层34nm、TiO₂层109nm、SiO₂层132nm、TiO₂层102nm、SiO₂层55nm、TiO₂层113nm、SiO₂层64nm、TiO₂层103nm、SiO₂层110nm、TiO₂层100nm、SiO₂层75nm、TiO₂层102nm、SiO₂层101nm、TiO₂层95nm、SiO₂层107nm、TiO₂层101nm、SiO₂层75nm、TiO₂层112nm、SiO₂层53nm、TiO₂层103nm、SiO₂层118nm、TiO₂层89nm、SiO₂层131nm、TiO₂层110nm、SiO₂层32nm、TiO₂层133nm、SiO₂层25nm、TiO₂层138nm、SiO₂层22nm、TiO₂层123nm、SiO₂层87nm；第二膜系为36层，由内到外的材料及厚度分别为TiO₂层17nm、SiO₂层30nm、TiO₂层72nm、SiO₂层16nm、TiO₂层30nm、SiO₂层193nm、TiO₂层115nm、SiO₂层184nm、TiO₂层113nm、SiO₂层184nm、 TiO₂层112nm、SiO₂层183nm、TiO₂层111nm、SiO₂层180nm、TiO₂层109nm、SiO₂层179nm、TiO₂层110nm、SiO₂层181nm、TiO₂层110nm、SiO₂层181nm、TiO₂层110nm、SiO₂层180nm、 TiO₂层109nm、SiO₂层179nm、TiO₂层110nm、SiO₂层182nm、TiO₂层112nm、SiO₂层184nm、TiO₂层112nm、SiO₂层184nm、TiO₂层112nm、SiO₂层187nm、TiO₂层23nm、SiO₂层8nm、TiO₂层86nm、SiO₂层92nm。