[发明专利]栅极区域的光学临近修正验证方法有效

专利信息
申请号: 201510456589.0 申请日: 2015-07-29
公开(公告)号: CN105159026B 公开(公告)日: 2019-10-25
发明(设计)人: 段伟;何大权;魏芳;朱骏;吕煜坤;张旭升 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: G03F1/36 分类号: G03F1/36
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 智云
地址: 201203 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 栅极 区域 光学 临近 修正 验证 方法
【权利要求书】:

1.一种栅极区域的光学临近修正验证方法,其特征在于包括:

第一步骤:模拟OPC图形,并根据目标图形选择栅极图形;

第二步骤:将栅极图形与有源区图形重合的边确定为栅极源区重合边;

第三步骤:计算模拟图形的弧线终点离栅极源区重合边的距离,作为栅极区域拐角圆化距离;

第四步骤:根据栅极区域拐角圆化距离,确定栅极图形OPC验证区域的第一OPC验证区域;

其中,所述第一OPC验证区域是指从栅极源区重合边开始,沿着栅极源区重合边形成边长为栅极区域拐角圆化距离的矩形区域,所述栅极图形OPC验证区域是指栅极与目标图形重合的边单边分别向外延长距离d2所形成的区域,其包括第一OPC验证区域和第二OPC验证区域,所述距离d2大于距离d1,所述距离d1为常规栅极图形OPC验证区域中栅极与目标图形重合的边单边分别向外延长的距离;

第五步骤:利用第一OPC验证方法验证第一OPC验证区域,以获取第一验证结果;

第六步骤:将栅极图形OPC验证区域中的除了第一OPC验证区域之外的其它区域确定为第二OPC验证区域;

第七步骤:利用第二OPC验证方法验证第二OPC验证区域,以获取第二验证结果。

2.根据权利要求1所述的栅极区域的光学临近修正验证方法,其特征在于还包括第八步骤:将第一验证结果和第二验证结果合并以输出最终结果。

3.根据权利要求1或2所述的栅极区域的光学临近修正验证方法,其特征在于,所述第一OPC验证方法包括:针对第一OPC验证区域,模拟OPC修正后版图并检查模拟轮廓相对于目标图形的相对误差,查看模拟结果相对误差是否大于规定值。

4.根据权利要求3所述的栅极区域的光学临近修正验证方法,其特征在于,所述第一OPC验证方法包括:针对第一OPC验证区域,检查模拟图形以确定目标图形的图形线边位置误差值,当模拟图形与目标图形的图形线边位置误差值在规格规定的范围内时判断OPC结果正常,否则认为OPC结果存在问题并将图形坐标输出。

5.根据权利要求1或2所述的栅极区域的光学临近修正验证方法,其特征在于,在第三步骤中,首先计算目标图形拐角离栅极源区重合边的距离,并且随后根据计算出来的目标图形拐角离栅极源区重合边的距离来确定模拟图形的弧线终点离栅极源区重合边的距离,作为栅极区域拐角圆化距离。

6.根据权利要求5所述的栅极区域的光学临近修正验证方法,其特征在于,在第三步骤中,设定目标图形拐角离栅极源区重合边的距离与栅极区域拐角圆化距离之间的对应关系,从而根据计算出的目标图形拐角离栅极源区重合边的距离来确定栅极区域拐角圆化距离。

7.根据权利要求1或2所述的栅极区域的光学临近修正验证方法,其特征在于,第二OPC验证方法包括:针对第二OPC验证区域,检查模拟图形尺寸与目标图形尺寸的偏差的绝对值,当模拟尺寸与目标尺寸的偏差在规格规定的范围内时判断OPC结果正常,否则认为OPC结果存在问题并将图形坐标输出。

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