[发明专利]一种紫外线吸收剂乙基己基三嗪酮的合成方法有效

专利信息
申请号: 201510473845.7 申请日: 2015-08-05
公开(公告)号: CN105061345B 公开(公告)日: 2017-11-10
发明(设计)人: 赵定春;覃华中;艾涛 申请(专利权)人: 宜都市华阳化工有限责任公司
主分类号: C07D251/70 分类号: C07D251/70
代理公司: 宜昌市三峡专利事务所42103 代理人: 彭永念
地址: 443300 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 紫外线吸收剂 乙基 己基三嗪酮 合成 方法
【说明书】:

技术领域

本发明属于紫外线吸收剂制备领域,具体涉及一种紫外线吸收剂乙基己基三嗪酮的合成方法。

背景技术

三嗪类紫外线吸收剂是近年来新发展起来的一类高效广谱的紫外线吸收剂。它具有较大的发子结构和很高的紫外线吸收效率及抗氧化功能,是紫外线吸收剂的发展方向。在实际应用中三嗪类紫外线吸收剂与受阻胺光稳定剂有很好的协同效应,当两者共同使用时具有比它们单独使用更好的效果。同时三嗪类化合物是一类具有很好活性的杂环化合物,在未来药物领域将会出现新型、高效、安全及作用独特的三嗪类化合物。作为一种新型三嗪类紫外线吸收剂,乙基己基三嗪酮具有较大的分子结构和很高的紫外线吸收效率,具有广谱防晒效果,是现今市售UV-B吸收能力最强的油溶性吸收剂,具备高的光稳定性及防止UV-B诱导的免疫抑制作用。耐水性强,对皮肤的角质蛋白有较好的亲和力。专利申请CN10525317A公开了一种辛基三嗪酮及其互变异构体的制备工艺,其采用甲醇或乙醇与水的混合液进行固化;该方法能够得到固化后的成块产物,操作简单,收率高,但不能形成结晶产物;

专利申请CN1639134公开了2,4,6-三苯胺基-对-((羰基-2'-乙基己基-1'-氧基)-1,3,5-三嗪的互变异构形式(Ⅰ)的制备方法,该方法重点是重结晶使用的溶剂;以对氨基苯甲酸异辛酯和三聚氯氰为起始原料,在二甲苯溶剂中反应,得到2,4,6-三苯胺基-对-(羰基-2'-乙基己基-1'-氧基)-1,3,5-三嗪的互变异构体混合物;然后在一种或多种选自以下的溶剂的存在下进行结晶:具有2-8个碳原子的脂族醇,具有总共3-10个碳原子的脂族羧酸烷基酯,具有总共8-12个碳原子的芳族羧酸烷基酯,具有总共3-9个碳原子的脂族碳酸酯,具有总共2-8个碳原子的腈,具有总共3-6个碳原子的二烷基酮,和具有总共3-6个碳原子的脂族砜,其中该溶剂或混合物可以另外含有至多30%重量的烃;该方法能够达到结晶的产物,但结晶操作复杂、时间长,产品收率低;

以上两种技术方案,均未涉及目标产物辛基三嗪酮的制备方法,其结晶(固化)的方法各有缺陷。

发明内容

本发明的目的是针对以上问题,提供紫外线吸收剂乙基己基三嗪酮(以下称:UVT-150)的合成方法,其原料易得、反应条件温和、三废少、产品纯度高。

为解决上述技术问题,本发明所采用的技术方案是:一种紫外线吸收剂乙基己基三嗪酮的合成方法,其以三聚氰胺、对氯苯甲酸、异辛醇为起始原料,经两步合成,一步结晶而获得目标产物,

目标产物乙基己基三嗪酮的结构式如下:

其别称为2,4,6-三-苯胺基-(对-羰-2-乙基己基-1-氧)-1,3,5-三嗪、4,4',4”-(1,3,5-三嗪-2,4,6-三亚氨基)三苯甲酸三(2-乙基己基)酯、或紫外线吸收剂UVT-150。

合成时包括以下步骤:

步骤1)H3TATAB的合成

步骤2)UVT-150的合成

步骤1)中具体步骤为:先加入溶剂、催化剂、水、三聚氰胺,搅拌,室温下滴入采用同样溶剂溶解的对氯苯甲酸;随着反应的进行,温度逐步升高,直至回流,滴加完毕保温反应4-6h;然后加水稀释,冷却后抽滤、水洗涤至中性,抽干,干燥,得到白色固体H3TATAB。

其中,物料反应后加水稀释并冷却至5~10℃后抽滤,由于反应物料在溶剂中溶解度大,通过加水降低溶解度,析出产物。

进一步的,步骤1)中的溶剂为具有3-6个碳原子的二烷基酮;例如:丙酮、丁酮、2-戊酮、3-戊酮、2-己酮、环己酮或1,4-二氧六环。此类溶剂要求具有较强的溶解性,能够较好的溶解反应原料和生成产物,并能通过加水改变溶解度析出生成产物,还可对溶剂实现回收重复利用。

进一步的,步骤1)反应体系中的用水量为:三聚氰氨重量的3~5倍;三聚氰氨与对氯苯甲酸的摩尔用量比为1:3.1~3.3,三聚氰氨与催化剂的摩尔比为1:1.6~2。根据物料反应理论配比量,采用对氯苯甲酸微过量的配比,催化剂的用量通过试验结果进行合理调整,确定最佳配比量。

进一步的,步骤1)中的催化剂为碳酸钠、碳酸氢钠或碳酸钾;优选碳酸钠。加入碱性催化剂能够有效促进反应的生成。

步骤1)中反应起始温度为室温,随着反应的进行,直至回流反应;温度60~160℃;优选温度为100℃以下。因为选用的溶剂的沸点决定反应的回流温度,过高沸点的溶剂反应对会产生的杂质生成量的增加。

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