[发明专利]一种显示基板及其制备方法和显示面板

权利要求书

1.一种显示基板，包括多个子基板，所述子基板之间的间隔区域的衬底上设置有测距区，所述测距区用于在采用曝光工艺形成所述子基板中的各个膜层前测量掩模板与所述衬底之间的间距，其特征在于，所述测距区的周边区域的所述衬底上设置有支撑膜层，所述周边区域位于所述间隔区域内所述测距区的周围，且所述周边区域和所述测距区用于在曝光形成所述子基板中的各个膜层时被遮挡。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述支撑膜层的厚度与所述子基板中所有膜层的总厚度相同。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述子基板中的膜层包括黑矩阵、彩膜层、平坦层和隔垫物，所述支撑膜层包括从所述子基板所在的区域延伸至所述周边区域的所述黑矩阵、所述彩膜层、所述平坦层和所述隔垫物，其中，

所述支撑膜层中的所述黑矩阵的图形与所述子基板中的黑矩阵的图形相同；所述支撑膜层中的所述彩膜层的图形与所述子基板中的所述彩膜层的图形相同；所述支撑膜层中的所述平坦层的图形与所述子基板中的所述平坦层的图形相同；所述支撑膜层中的所述隔垫物的图形与所述子基板中的所述隔垫物的图形相同。

4.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述支撑膜层为固化的光刻胶层。

5.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述支撑膜层为固化的封框胶层。

6.根据权利要求1-5任意一项所述的显示基板，其特征在于，所述支撑膜层至少设置在所述周边区域的靠近所述子基板的一侧。

7.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1-6任意一项所述的显示基板。

8.一种显示基板的制备方法，包括形成子基板中的各个膜层，所述子基板之间的间隔区域的衬底上设置有测距区，其特征在于，还包括在所述测距区的周边区域的所述衬底上形成支撑膜层；所述周边区域位于所述间隔区域内所述测距区的周围，在曝光形成所述子基板中的各个膜层时遮挡所述周边区域和所述测距区。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述形成子基板中的各个膜层包括在对应所述子基板的所述衬底上形成黑矩阵、彩膜层、平坦层和隔垫物，所述黑矩阵、所述彩膜层、所述平坦层和所述隔垫物还延伸至所述周边区域形成所述支撑膜层，具体包括：

步骤S1：在所述显示基板的整个所述衬底上涂布黑矩阵膜层；

步骤S2：将对应所述测距区和所述周边区域的所述黑矩阵膜层遮挡；

步骤S3：采用包括黑矩阵图形的掩模板对未遮挡的所述黑矩阵膜层进行曝光；

步骤S4：将遮挡所述周边区域和所述测距区的遮挡物去除；

步骤S5：采用激光打印设备对所述周边区域和所述测距区内的所述黑矩阵膜层进行曝光；

步骤S6：对经过曝光的所述黑矩阵膜层进行显影，最终形成所述子基板中的所述黑矩阵和所述周边区域的所述黑矩阵；保留所述测距区内的所述黑矩阵膜层；

按照与形成所述黑矩阵相同的步骤在形成所述黑矩阵的所述衬底上形成所述子基板中和所述周边区域内的所述彩膜层、所述平坦层和所述隔垫物；并去除所述测距区内的所述彩膜层、所述平坦层和所述隔垫物。

10.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，首先，采用构图工艺在所述衬底上依次形成所述子基板中的各个膜层，对应所述周边区域的所述衬底上未形成任何膜层；然后，在完成上述步骤的所述衬底上涂布光刻胶膜层，对所述光刻胶膜层进行曝光和显影，保留对应位于所述周边区域内的所述光刻胶，去除对应位于所述周边区域以外区域内的所述光刻胶。

11.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，首先，采用构图工艺在所述衬底上依次形成所述子基板中的各个膜层，对应所述周边区域的所述衬底上未形成任何膜层；然后，对应在所述周边区域内涂布封框胶，并对所述封框胶进行固化。