[发明专利]一种显示基板及其制备方法和显示面板

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体地，涉及一种显示基板及其制备方法和显示面板。

背景技术

与阴极射线管显示器(CRT)相比，液晶显示器(LCD)具有很多优点，如厚度较薄，功耗较低等。因此，液晶显示器在很多领域都已经代替了CRT显示器。

常规的薄膜晶体管液晶面板(TFT-LCD)包括阵列基板(Array)、彩膜基板(CF)和液晶层，液晶层填充于Array基板和CF基板之间。CF基板的膜层形成顺序依次为黑矩阵(BM)、彩膜层(B、G、R彩膜)、平坦层(OC)和隔垫物(PS)，每一膜层的制备工艺都包括涂布、曝光和显影。

常用的曝光方法为接近式曝光，因此需要测试掩模板与玻璃基板之间的距离。如图1所示，为现有技术测定掩模板与玻璃基板之间距离的系统结构图，包括半导体激光器61、偏光片62、反光镜63、掩模板64、玻璃基板65以及线性传感器66。通过半导体激光器61发生出激光穿过偏振片62调整光路，然后将出射的光束照射到反光镜63上，通过反光镜63反射的光束穿过掩模板64的测距窗口641入射到玻璃基板65的上表面A1点，线性传感器66接收到掩模板64测距窗口641下表面A点折射的光束和玻璃基板65上表面A1点反射的光线的光强信息，再通过模数转换电路转换成电压信号，将A1点和A点的光强信息表现出来。通过对接收到的电压信号进行处理分析，比较接收到两个信号的时间差，从而测定掩模板64与玻璃基板65的之间的距离，即A1点和A点之间的距离。

为了保证每次曝光前测得的掩模板64与玻璃基板65之间的距离数据的准确性，测距窗口641处除了黑矩阵之外不得有其他任何膜层，因此在黑矩阵之后的膜层涂覆后曝光前都需要将测距窗口641及其周围区域进行挡光板遮挡，以防止后续膜层的光刻胶曝光固化，将测距窗口641遮挡住。另外，在测距窗口641的被遮挡的周围区域如果存在膜层的话，在曝光时由于遮挡容易造成被遮挡区域与未被遮挡区域之间的接壤区域不完全曝光，在后续的显影过程中产生碎屑污染。因此，一般彩膜基板母板上对应测距窗口641的附近会存在一大片空白区域7，如图2所示。

如图3所示，由于彩膜基板母板上测距窗口641附近空白区域7的存在，使彩膜基板母板上空白区域7与其他非空白区域会形成断差，这在后续的彩膜基板母板与阵列基板母板的真空对盒过程中会造成对盒基板应力集中产生牛顿环，导致对盒基板变形，引起盒厚异常，因此点灯时出现画面显示不均，同样灰阶下发生局部发黄。

发明内容

本发明针对现有技术中存在的上述技术问题，提供一种显示基板及其制备方法和显示面板。该显示基板的测距区的周边区域和子基板所在区域不会形成很大的断差，从而使该显示基板在后续与其他基板对盒时不会出现比较明显的应力集中，进而能够避免该显示基板在对盒时发生较大变形，由此避免对盒后的盒厚出现异常，使对盒后的显示面板在显示时不会发生局部发黄现象。

本发明提供一种显示基板，包括多个子基板，所述子基板之间的间隔区域的衬底上设置有测距区，所述测距区用于在采用曝光工艺形成所述子基板中的各个膜层前测量掩模板与所述衬底之间的间距，所述测距区的周边区域的所述衬底上设置有支撑膜层，所述周边区域位于所述间隔区域内所述测距区的周围，且所述周边区域和所述测距区用于在曝光形成所述子基板中的各个膜层时被遮挡。

优选地，所述支撑膜层的厚度与所述子基板中所有膜层的总厚度相同。

优选地，所述子基板中的膜层包括黑矩阵、彩膜层、平坦层和隔垫物，所述支撑膜层包括从所述子基板所在的区域延伸至所述周边区域的所述黑矩阵、所述彩膜层、所述平坦层和所述隔垫物，且所述支撑膜层中各个膜层的图形与所述子基板中相同膜层的图形分别相同。

优选地，所述支撑膜层为固化的光刻胶层。

优选地，所述支撑膜层为固化的封框胶层。

优选地，所述支撑膜层至少设置在所述周边区域的靠近所述子基板的一侧。

本发明还提供一种显示面板，包括上述显示基板。

本发明还提供一种显示基板的制备方法，包括形成子基板中的各个膜层，所述子基板之间的间隔区域的衬底上设置有测距区，还包括在所述测距区的周边区域的所述衬底上形成支撑膜层；所述周边区域位于所述间隔区域内所述测距区的周围，在曝光形成所述子基板中的各个膜层时遮挡所述周边区域和所述测距区。

优选地，所述形成子基板中的各个膜层包括在对应所述子基板的所述衬底上形成黑矩阵、彩膜层、平坦层和隔垫物，所述黑矩阵、所述彩膜层、所述平坦层和所述隔垫物还延伸至所述周边区域形成所述支撑膜层，具体包括：