[发明专利]识别彩膜基板上隔垫物的方法及隔垫物高度的测量方法

权利要求书

1.一种识别彩膜基板上隔垫物的方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1、提供待测量的彩膜基板及CCD相机(5)，所述彩膜基板包括基板(1)、设在基板(1)上的主隔垫物(2)、及辅助隔垫物(3)，所述主隔垫物(2)的高度大于辅助隔垫物(3)的高度；

步骤2、使用CCD相机(5)对所述主隔垫物(2)、及辅助隔垫物(3)进行俯拍；

步骤3、下降CCD相机(5)的镜头进行对焦，直至获得第一个清晰的隔垫物图像，该第一个被拍摄到清晰图像的隔垫物为主隔垫物(2)，仍为模糊图像的隔垫物为辅助隔垫物(3)。

2.如权利要求1所述的彩膜基板上隔垫物的识别方法，其特征在于，所述步骤2中CCD相机(5)对所述主隔垫物(2)、及辅助隔垫物(3)开始俯拍时，所述主隔垫物(2)与辅助隔垫物(3)均位于所述CCD相机(5)的镜头的焦距之外，所述主隔垫物(2)与辅助隔垫物(3)被拍摄到的图像均为模糊图像。

3.如权利要求1所述的彩膜基板上隔垫物的识别方法，其特征在于，所述步骤3中CCD相机(5)的镜头匀速下降，下降速度根据主隔垫物(2)与辅助隔垫物(3)的高度差设置。

4.如权利要求1所述的彩膜基板上隔垫物的识别方法，其特征在于，其特征在于，所述辅助隔垫物包括第一辅助隔垫物、及第二辅助隔垫物，所述第一辅助隔垫物的高度大于第二辅助隔垫物的高度。

5.如权利要求4所述的彩膜基板上隔垫物的识别方法，其特征在于，还包括：步骤4、继续下降CCD相机(5)的镜头进行对焦，直至获得第二个清晰的隔垫物图像，该第二个被拍摄到清晰图像的隔垫物为第一辅助隔垫物，仍为模糊图像的隔垫物为第二辅助隔垫物。

6.如权利要求1所述的彩膜基板上隔垫物的识别方法，其特征在于，所述彩膜基板还包括设于所述基板(1)上的黑色矩阵、及设于所述基板(1)上及所述黑色矩阵内的RGB子像素，所述主隔垫物(2)、及辅助隔垫物(3)设于黑色矩阵上；所述主隔垫物(2)、及辅助隔垫物(3)均为锥形柱状物。

7.一种隔垫物高度的测量方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1、提供待测量的彩膜基板及CCD相机(5)，所述彩膜基板包括基板(1)、设在基板(1)上的主隔垫物(2)、及辅助隔垫物(3)，所述主隔垫物(2)的高度大于辅助隔垫物(3)的高度；

步骤2、使用CCD相机(5)对所述主隔垫物(2)、及辅助隔垫物(3)进行俯拍；

步骤3、下降CCD相机(5)的镜头进行对焦，直至获得第一个清晰的隔垫物图像，该第一个被拍摄到清晰图像的隔垫物为主隔垫物(2)，记录主隔垫物(2)的坐标位置；

步骤4、根据步骤3记录的主隔垫物(2)的坐标位置，对主隔垫物(2)进行高度测量，从而得到主隔垫物(2)的高度；

步骤5、继续下降CCD相机(5)的镜头进行对焦，直至获得第二个清晰的隔垫物图像，该第二个被拍摄到清晰图像的隔垫物为辅助隔垫物(3)，记录该辅助隔垫物(3)的坐标位置；

步骤6、根据步骤5记录的坐标位置，对辅助隔垫物(3)进行高度测量，从而得到辅助隔垫物(3)的高度。

8.如权利要求7所述的隔垫物高度的测量方法，其特征在于，所述步骤2中CCD相机(5)对所述主隔垫物(2)、及辅助隔垫物(3)开始俯拍时，所述主隔垫物(2)与辅助隔垫物(3)均位于所述CCD相机(5)的镜头的焦距之外，所述主隔垫物(2)与辅助隔垫物(3)被拍摄到的图像均为模糊图像；

所述步骤3中CCD相机(5)的镜头匀速下降，下降速度根据主隔垫物(2)与辅助隔垫物(3)的高度差设置。

9.如权利要求7所述的隔垫物高度的测量方法，其特征在于，所述辅助隔垫物包括第一辅助隔垫物、及第二辅助隔垫物，所述第一辅助隔垫物的高度大于第二辅助隔垫物的高度，所述步骤5中记录的辅助隔垫物的坐标位置为第一辅助隔垫物的坐标位置。

10.如权利要求7所述的隔垫物高度的测量方法，其特征在于，所述彩膜基板还包括设于所述基板(1)上的黑色矩阵、及设于所述基板(1)上及所述黑色矩阵内的RGB子像素，所述主隔垫物(2)、及辅助隔垫物(3)设于黑色矩阵上，所述主隔垫物(2)、及辅助隔垫物(3)均为锥形柱状物。