[发明专利]一种基于多曝光程序的多硅片循环运动方法有效
| 申请号： | 201510488878.9 | 申请日： | 2015-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN105093849B | 公开（公告）日： | 2017-06-23 |
| 发明（设计）人： | 李文亮;吴鹏;陈力钧;朱骏;莫少文 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙)31275 | 代理人： | 吴世华,陈慧弘 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基于 曝光 程序 硅片 循环 运动 方法 | ||
1.一种基于多曝光程序的多硅片循环运动方法，用于浸润式光刻工艺过程中，其特征在于，包括以下步骤：
步骤S01、将硅片盒内的单枚硅片传送至硅片载片台；其中，在光刻机投影镜头与硅片之间用一种浸润介质充满；
步骤S02、对传送至硅片载片台上的硅片进行预设轮数的循环曝光，其中，循环曝光的轮数至少为2轮，以使浸润介质中的微粒聚集在单枚所述硅片上至饱和状态，且循环曝光的轮数与曝光程序中的曝光影像的数量相等；
步骤S03、将循环曝光后的硅片传回至硅片盒，所述硅片带走了浸润介质中的微粒；
步骤S04、将硅片盒内的下一枚硅片传送至硅片载片台，并对其进行预设轮数的循环曝光，然后将循环曝光后的硅片传回至硅片盒，如此重复，使浸润介质中的微粒越来越少，直至硅片盒内的硅片全部完成循环曝光。
2.根据权利要求1所述的基于多曝光程序的多硅片循环运动方法，其特征在于，对硅片的曝光面积减少至预设面积。
3.根据权利要求1所述的基于多曝光程序的多硅片循环运动方法，其特征在于，不同曝光影像的曝光区域的面积大小不一致。
4.根据权利要求1所述的基于多曝光程序的多硅片循环运动方法，其特征在于，所述步骤S02中，对传送至硅片载片台上的硅片进行循环曝光的轮数为8～15轮。
5.根据权利要求4所述的基于多曝光程序的多硅片循环运动方法，其特征在于，所述步骤S02中，对传送至硅片载片台上的硅片进行循环曝光的轮数为12轮。
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