[发明专利]一种曝光装置及曝光方法

权利要求书

1.一种曝光装置，包括机架和掩膜版，其特征在于，还包括：

安装于所述机架、以用于承装基板的基板载台，所述基板载台由可形变的材料制备、以使所述基板载台具有设定的变形量；

间距测量模块，用于测量所述基板与所述掩膜版之间曝光间距、且根据测量的曝光间距以及预先设定的间距值计算出曝光间距补偿量；

用于驱动所述基板载台变形的驱动模块，所述驱动模块与所述间距测量模块信号相连、且根据所述曝光间距补偿量驱动所述基板载台变形、以调整所述基板与所述掩膜版之间的曝光间距。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述间距测量模块包括：

用于测量所述基板与所述掩膜版之间曝光间距的间距测量单元；

根据测量的曝光间距以及预先设定的间距值计算出曝光间距补偿量的间距计算单元；

所述间距测量单元与所述间距计算单元信号连接。

3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述驱动模块包括：

安装于所述机架、动作时驱动所述基板载台整体升降的第一驱动部，所述第一驱动部与所述间距计算单元信号连接；

安装于所述机架、动作时驱动所述基板载台变形的第二驱动部，所述第二驱动部与所述间距计算单元信号连接。

4.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，所述第一驱动部位于所述基板载台背离基板的一侧，且所述基板载台的四个角部中，每一个所述角部设有一个所述第一驱动部。

5.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，所述第二驱动部为多个，各所述第二驱动部位于所述基板载台背离基板的一侧、且呈阵列分布。

6.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，所述第二驱动部包括：

固定于所述基板载台背离基板一侧的楔形块，所述楔形块背离所述基板载台的一面为斜面；

可相对所述机架沿垂直于所述曝光间距的方向滑动地安装于所述机架、且朝向所述基板载台的一面与所述楔形块的斜面相抵的滑块，当所述滑块相对于所述机架滑动时驱动所述楔形块沿所述曝光间距方向移动；

驱动所述滑块运动的驱动机构。

7.根据权利要求6所述的曝光装置，其特征在于，所述驱动机构为伺服马达。

8.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，所述间距测量单元为多个、且与所述第二驱动部一一对应，每一个所述间距测量单元用于检测其对应的第二驱动部驱动的所述基板载台的区域上基板的曝光间距。

9.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述基板载台具有设定的变形量的范围为10μm～100μm。

10.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述间距测量单元为位移传感器。

11.一种如权利要求1-10任一项所述的曝光装置的曝光方法，其特征在于，包括：

所述间距测量单元测量所述基板与所述掩膜版之间曝光间距，所述间距计算单元根据测量的曝光间距以及预先设定的间距值计算出曝光间距补偿量，且把曝光间距补偿量信号传输至驱动模块；

所述驱动模块根据接收到的曝光间距补偿量动作以驱动所述基板载台动作以及变形，进行曝光间距补偿，以使基板载台上的基板所有区域的曝光间距值满足设定的曝光间距控制范围；

移开所述曝光间距测量单元；

对基板进行曝光处理；

控制驱动模块复位，以使基板载台形变恢复。

12.根据权利要求11所述的曝光方法，其特征在于，当所述驱动模块包括第一驱动部和第二驱动部时，所述第一驱动部驱动所述基板载台整体移动，所述第二驱动部驱动所述基板载台变形，直至基板所有区域的曝光间距满足设定的曝光间距控制范围时，所述第二驱动部动作停止，且所述第二驱动部保持在所述第二驱动部动作停止位置。

13.根据权利要求11所述的曝光方法，其特征在于，在对基板进行曝光处理之前，还包括：

采集曝光机在曝光平面上的照度分布信息；

根据照度分布信息确定基板载台变形量的预补偿量，以使曝光机在曝光面上的照度分布信息满足曝光需求。

14.根据权利要求13所述的曝光方法，其特征在于，所述根据照度分布信息确定基板载台变形量的预补偿量，具体包括：

将采集的照度分布信息与设定的照度分布信息比对，对照度偏大的区域对应位置的曝光间距设置一个预补偿量，使基板载台根据上述预补偿量进行变形调整后再次对采集的照度分布信息与设定的照度分布信息比对：

当采集的照度分布信息满足曝光需求时，确定此时的预补偿量为最终的预补偿量；

当采集的照度分布信息不满足曝光需求时，重复上述步骤直至采集的照度分布信息满足曝光需求，并确定使采集的照度分布信息满足曝光需求的预补偿量为最终的预补偿量。