[发明专利]一种曝光装置及曝光方法

说明书

技术领域

本发明涉及光刻技术领域，尤其涉及一种曝光装置及曝光方法。

背景技术

目前，在液晶显示器追求高分辨率、大尺寸和高品质的背景下，基板作为液晶显示器的主要组成器件，基板的曝光对液晶显示器的分辨率有重要影响，在基板的制作过程中，曝光设备用于基台进行曝光，目前使用的曝光设备是曝光机，尤其是接近式曝光机。

曝光机曝光间距是接近式曝光保证分辨率和关键尺寸的最重要参数，而现有接近式曝光机对曝光间距的均一性保证由基板载台平坦度和掩膜版弯曲度两方面控制，但是现有的接近式曝光机中，少有涉及曝光间距均一性的专门控制，通常情况下基板载台的平坦度和掩膜版的弯曲度作为接近式曝光机的一个基本工艺条件，在曝光开始之前要达到一定的水平，而基板载台和掩膜版承载部一旦制作安装完成，曝光机基板载台的平坦度和掩膜版的弯曲度将无法改变，此时，曝光机无法在曝光过程中实时改变曝光间距，即无法进行曝光补偿，影响基板的曝光质量。

发明内容

本发明提供一种曝光装置及曝光方法，利用具有可形变的基板载台和间距测量模块，进行曝光补偿，使曝光间距都接近设定值，以提高曝光质量。

为达到上述目的，本发明提供以下技术方案：

一种曝光装置，包括机架和掩膜版，还包括：

安装于所述机架、以用于承装基板的基板载台，所述基板载台由可形变的材料制备、以使所述基板载台具有设定的变形量；

间距测量模块，用于测量所述基板与所述掩膜版之间曝光间距、且根据测量的曝光间距以及预先设定的间距值计算出曝光间距补偿量；

用于驱动所述基板载台变形的驱动模块，所述驱动模块与所述间距测量模块信号相连、且根据所述曝光间距补偿量驱动所述基板载台变形、以调整所述基板与所述掩膜版之间的曝光间距。

在上述曝光装置中，间距测量模块测量设置于基板载台上的基板与掩膜版之间的曝光间距、并根据测量的曝光间距以及预先设定间距值计算出曝光间距补偿量，驱动模块在接收到间距测量模块的动作信号后动作，根据曝光间距补偿量驱动基板载台变形，能够调整设置于基板载台上的基板与掩膜版之间的距离，从而调整曝光间距，直至曝光间距在可接受的范围内，以实现对曝光间距的补偿；基板载台某一区域的曝光间距补偿量为正时，此时，基板载台此区域对应的基板与掩膜版之间的距离过大，因此，驱动模块驱动基板载台发生变形，以使基板载台的该区域向着间距测量模块运动，进而减小基板中与基板载台该区域对应的部位与掩膜版之间的距离，直至曝光间距在可接受范围内，曝光间距补偿量减少至零时，驱动模块动作停止，驱动模块保持停留在停止动作时的位置；当基板载台某一区域的曝光间距补偿量为负时，此时，基板该区域与掩膜版之间的距离过小，曝光过度，驱动模块先驱动基板载台整体向远离间距测量模块的方向动作，进而使基板与掩膜版之间的距离增大，曝光间距增大，在该区域的曝光间距补偿量为零时，驱动模块再驱动基板载台发生变形，以使基板载台在曝光间距补偿量为正的区域向着间距测量模块运动，直至曝光间距在可接受范围内，曝光间距补偿量减小至零时，驱动模块动作停止，驱动模块保持停留在停止动作时的位置。

因此，上述曝光装置能够进行曝光补偿，使曝光间距都接近设定值，以提高曝光质量。

优选地，所述间距测量模块包括：

用于测量所述基板与所述掩膜版之间曝光间距的间距测量单元；

根据测量的曝光间距以及预先设定的间距值计算出曝光间距补偿量的间距计算单元；

所述间距测量单元与所述间距计算单元信号连接。

优选地，所述驱动模块包括：

安装于所述机架、动作时驱动所述基板载台整体升降的第一驱动部，所述第一驱动部与所述间距计算单元信号连接；

安装于所述机架、动作时驱动所述基板载台变形的第二驱动部，所述第二驱动部与所述间距计算单元信号连接。

优选地，所述第一驱动部位于所述基板载台背离基板的一侧，且所述基板载台的四个角部中，每一个所述角部设有一个所述第一驱动部。

优选地，所述第二驱动部为多个，各所述第二驱动部位于所述基板载台背离基板的一侧、且呈阵列分布。

优选地，所述第二驱动部包括：

固定于所述基板载台背离基板一侧的楔形块，所述楔形块背离所述基板载台的一面为斜面；

可相对所述机架沿垂直于所述曝光间距的方向滑动地安装于所述机架、且朝向所述基板载台的一面与所述楔形块的斜面相抵的滑块，当所述滑块相对于所述机架滑动时驱动所述楔形块沿所述曝光间距方向移动；

驱动所述滑块运动的驱动机构。