[发明专利]保护膜覆盖方法和保护膜覆盖装置

权利要求书

1.一种保护膜覆盖方法,其是在待进行激光加工的晶片的正面上覆盖液态树脂而形成保护膜的方法，其特征在于，

该保护膜覆盖方法包括：

晶片保持工序，将晶片以该晶片的正面成为上侧的方式保持在旋转工作台上；

液态树脂滴下工序，将液态树脂滴下至被保持在旋转工作台上的晶片的正面中央区域处；

水层形成工序，对于在正面中央区域滴下有液态树脂的晶片供给水，在晶片的整个正面上形成水层；

液态树脂扩散工序，使旋转工作台旋转，随着晶片的旋转，作用于水层的离心力使得水层飞散，由此使液态树脂扩散而在晶片的整个正面上形成薄的保护膜层；

液态树脂供给工序，使旋转工作台以比该液态树脂扩散工序慢的速度旋转，并向晶片的整个正面供给比该液态树脂滴下工序多的量的液态树脂；以及

保护膜形成工序，使旋转工作台以比该液态树脂供给工序快的速度旋转，随着晶片旋转，作用于液态树脂的离心力使液态树脂扩张，从而在晶片的整个正面上形成保护膜。

2.一种保护膜覆盖装置,其是在晶片的正面上覆盖液态树脂而形成保护膜的装置，其特征在于，

所述保护膜覆盖装置具备：

旋转工作台，其在将晶片粘贴在保护带上的状态下保持该晶片，所述保护带安装在环状框架上；

旋转驱动构件，其驱动该旋转工作台旋转；

供水机构，其向粘贴在保护带上的晶片供给水，所述保护带安装在该旋转工作台所保持的环状框架上；

液态树脂供给机构，其向粘贴在保护带上的晶片供给液态树脂，所述保护带安装在该旋转工作台所保持的环状框架上；以及

控制单元，其控制该旋转驱动构件、该供水机构和该液态树脂供给机构，

该控制单元执行以下工序：

液态树脂滴下工序，使该液态树脂供给机构工作而将液态树脂滴下至被保持在该旋转工作台上的晶片的正面中央区域处；

水层形成工序，在实施了该液态树脂滴下工序之后，使该供水机构工作，对于在正面中央区域滴下有液态树脂的晶片供给水，在晶片的整个正面上形成水层；

液态树脂扩散工序，在实施了该水层形成工序之后，使该旋转驱动构件工作而使旋转工作台旋转，随着晶片的旋转，作用于水层的离心力使得水层飞散，由此使液态树脂扩散而在晶片的整个正面上形成薄的保护膜层；

液态树脂供给工序，在实施了该液态树脂扩散工序之后，使该旋转驱动构件工作而使旋转工作台以比该液态树脂扩散工序慢的速度旋转，并且使该液态树脂供给机构工作而向晶片的整个正面供给比该液态树脂滴下工序多的量的液态树脂；以及

保护膜形成工序，在实施了该液态树脂供给工序之后，使该旋转驱动构件工作而使旋转工作台以比该液态树脂供给工序快的速度旋转，随着晶片的旋转，作用于液态树脂的离心力使液态树脂扩张，从而在晶片的整个正面上形成保护膜。