[发明专利]门多萨假单胞菌NX-1及其在正己烷降解中的应用有效

专利信息
申请号: 201510513868.6 申请日: 2015-08-20
公开(公告)号: CN105087440B 公开(公告)日: 2018-05-22
发明(设计)人: 陈东之;陈建孟;江宁馨;叶杰旭 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: C12N1/20 分类号: C12N1/20;C02F3/34;C12R1/38;C02F101/32
代理公司: 杭州天正专利事务所有限公司 33201 代理人: 黄美娟;李世玉
地址: 310014 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 门多萨假单胞菌 nx 及其 己烷 降解 中的 应用
【权利要求书】:

1.门多萨假单胞菌(Pseudomonas mendocina)NX-1,保藏于中国典型培养物保藏中心,保藏日期为2015年3月15日,保藏编号:CCTCC NO:M2015114,地址:中国,武汉,武汉大学,邮编430072。

2.一种权利要求1所述的门多萨假单胞菌NX-1在微生物降解正己烷中的应用。

3.如权利要求2所述的应用,其特征在于所述的应用为:将门多萨假单胞菌NX-1经种子培养基培养所获得的菌液作为酶源,以正己烷为底物,于无机盐培养基中,在pH=4~10、20℃~40℃、100~200rpm条件下进行降解反应,实现对正己烷的降解;所述无机盐培养基终浓度组成如下:Na2HPO4 4.5g/L、KH2PO4 1.0g/L、(NH4)2SO4 2.5g/L、MgSO4·7H2O 0.2g/L、CaCl2 0.023g/L,微量元素母液1mL/L,pH 7.0,溶剂为去离子水;所述的微量元素母液浓度组成:FeSO4·7H2O 1.0g/L、CuSO4·5H2O 0.02g/L、H3BO3 0.014g/L、MnSO4·4H2O 0.10g/L、ZnSO4·7H2O 0.10g/L、Na2MoO4·2H2O 0.02g/L、CoCl2·6H2O 0.02g/L,溶剂为去离子水。

4.如权利要求3所述的应用,其特征在于所述正己烷在无机盐培养基中初始浓度为20~800mg/L。

5.如权利要求3所述的应用,其特征在于所述酶源用量以无机盐培养基中OD600计为0.01~0.03。

6.如权利要求3所述的应用,其特征在于所述酶源按如下步骤制备:

1)斜面培养:将门多萨假单胞菌NX-1接种于R2A固体斜面培养基,30~32℃培养36~48h,获得斜面菌体,所述R2A固体斜面培养基终浓度组成为:酵母粉0.50g/L、干酪素0.50g/L、可溶性淀粉0.50g/L、MgCl2·7H2O 0.05g/L、胰蛋白胨0.50g/L、葡萄糖0.50g/L、丙酮酸钠0.30g/L、KH2PO4 0.45g/L,琼脂15~18g/L;pH为7.2,溶剂为水;

2)种子培养:用接种环挑取步骤(1)获得的斜面菌体接种至含终浓度100~400mg/L正己烷的种子培养基中,30~32℃,培养36~38h,获得OD600=0.1~0.3的菌液;所述种子培养基为无机盐培养基。

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