[发明专利]一种显示装置、触控面板及其制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示装置、触控面板及其制作方法。

背景技术

目前，随着触摸技术的快速发展，OGS(One Glass Solution,单片玻璃式)电容触摸屏技术，由于其自身具有结构简单、轻、薄、透光性好等优点逐渐成为触控面板的发展趋势；另外，由于可以省掉一片玻璃基板以及一道贴合工序，OGS电容触摸屏还具有产品良率高等优点，使得OGS电容触摸屏在触摸屏领域中占有广阔的市场前景。

在目前的生产线中，OGS电容触摸屏在加工绝缘层以及触控电极时需要多道掩膜版构图工艺才能完成制作，造成该OGS电容触摸屏的制作存在加工效率低下以及加工成本高的缺陷。

发明内容

(一)所要解决的技术问题

本发明所要解决的技术问题是提供一种显示装置、触控面板及其制作方法，以克服现有技术中制作触控面板需要多次掩膜版工艺造成的生产效率低下，加工成本高等缺陷。

(二)技术内容

为了解决上述技术问题，本发明一方面提供一种触控面板的制作方法，包括：

步骤S1：在基板上通过一次构图工艺形成图案化的金属架桥，引线；

步骤S2：沉积绝缘层和透明电极层，通过一次构图工艺形成绝缘层的图形以及用于触控的第一电极和第二电极的图形。

优选地，所述步骤S1之前还包括：在基板上形成黑矩阵的图形，所述黑矩阵的图形与金属引线相对应。

优选地，步骤S2具体包括:

在绝缘层上涂覆光刻胶，通过半透明掩膜版进行曝光显影，其中，对应绝缘层过孔处为光刻胶完全曝光区域，对应触控的第一电极和第二电极处为光刻胶半曝光区域，所述光刻胶完全曝光区域和所述光刻胶半曝光区域以外的区域为光刻胶完全保留区域；

干法刻蚀绝缘层，形成绝缘层过孔，并对光刻胶进行灰化，去除所述光刻胶半曝光区域的光刻胶；

沉积透明电极，对剩余光刻胶进行离地剥离，有光刻胶的区域透明电极全部被去除，而无光刻胶的区域透明电极全部被保留，进而形成用于触控的第一电极和第二电极。

优选地，在步骤S2之后还包括步骤S3：在第一电极和第二电极上形成保护层。

优选地，所述保护层由SiNOx薄膜制成。

另一方面，本发明还提供一种触控面板，包括：基板，在基板上设有金属架桥和引线，在上述结构的基板上设有绝缘层和用于触控的第一电极和第二电极，所述绝缘层上设有过孔，通过过孔，所述第一电极分别与金属架桥和金属引线实现电连接。

优选地，所述基板上还设有黑矩阵，所述黑矩阵贴近基板，且与金属架桥位置相对应。

优选地，还包括保护层，其位于第一电极和第二电极上。

再一方面，本发明还提供一种显示装置，包括上述的触控面板。

(三)有益效果

本发明提供一种显示装置、触控面板及其制作方法，该方法通过一次构图工艺即可同时形成绝缘层、第一电极和第二电极的图形，最大程度地提高触控面板工艺生产的效率，节约生产成本，提升了产线竞争力。

附图说明

图1为本发明实施例一触控面板制作方法流程示意图；

图2为本发明实施例二触控面板制作方法结构示意图；

图3为本发明实施例三触控面板制作方法流程示意图；

图4-10为本发明实施例四触控面板制作步骤示意图。

其中：

1：基板；2：黑矩阵；3：金属引线；4：金属架桥；5：绝缘层；51：过孔；6：光刻胶；7：透明电极层；81：第一电极；82：第二电极。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不是用来限制本发明的范围。

实施例1

如图1所示，本发明提供一种触控面板的制作方法，该制作方法适应于制作on cell型触控面板，该制作方法具体包括：

步骤S101：在基板上通过一次构图工艺形成图案化的金属架桥，引线；

步骤S201：沉积绝缘层和透明电极层，通过一次构图工艺形成绝缘层的图形以及用于触控的第一电极和第二电极的图形。

另外，在完成上述步骤的基板上还包括在第一电极和第二电极上形成保护层的工艺，该保护层由SiNOx薄膜制成，该保护层为ITO消影，同时起到保护第一电极和第二电极的图形的作用，避免其受到外界的污染和损坏。