[发明专利]一种小开口蒸镀用掩模板

说明书

技术领域

本发明属于显示面板制作行业，涉及一种应用于OLED显示面板制作过程中的蒸镀用掩模板，具体涉及一种小开口蒸镀用掩模板。

背景技术

由于有机电致发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)由于同时具备自发光，不需背光源、对比度高、厚度薄、视角广、反应速度快、可用于挠曲性面板、使用温度范围广、构造及制程较简单等优异之特性，被认为是下一代的平面显示器新兴应用技术。

OLED生产过程中最重要的一环节是将有机层按照驱动矩阵的要求沉积到基板上，形成关键的发光显示单元。OLED是一种固体材料，其高精度涂覆技术的发展是制约OLED产品化的关键。目前完成这一工作，主要采用真空沉积或真空热蒸发（VTE）的方法，其是将位于真空腔体内的有机物分子轻微加热（蒸发），使得这些分子以薄膜的形式凝聚在温度较低的基板上。在这一过程中需要与OLED发光显示单元精度相适应的高精密掩模板作为媒介。

图1所示是一种用于OLED蒸镀用掩模板的结构示意图，具有掩模图案10的掩模板11固定在外框12上，其中掩模板11、外框12均为金属材料。图2所示为图1中A-A方向的截面放大示意图，20为掩模部，21为有机材料蒸镀时在基板上形成薄膜所经过的开口，由于掩模板11一般是金属薄片通过蚀刻工艺制得，构成其掩模图案（10）的掩模部（20）、开口（21）的尺寸会受到金属薄片本身厚度h（h一般大于30μm）和工艺的限制，从而限制最终OLED产品的分辨率；换而言之，开口（21）的宽度尺寸d1很难进一步做小（目前d1小于30um的开口非常难以制作），即使能够做到很小，较大高宽比的开口亦不能满足高质量蒸镀过程。鉴于此，业内亟需一种能够解决此问题的方案。

发明内容

有鉴于此，本发明提供了一种小开口蒸镀用掩模板,能够有效克服以上问题，具体技术方案如下。

一种小开口蒸镀用掩模板，所述掩模板包括掩模层和掩模支撑层两层结构，所述掩膜层具有由掩模开口阵列形成的开口单元，所述掩模支撑层具有由支撑窗口阵列形成的窗口单元，所述掩模层和所述掩模支撑层之间紧密贴合；构成所述开口单元的掩模开口阵列方式与构成所述窗口单元的支撑窗口阵列方式相同，所述掩模开口与所述支撑窗口一一对应，且每个所述掩模开口设置于相应的所述支撑窗口内部；所述掩模开口的开口尺寸小于相对应的所述支撑窗口的开口尺寸，所述掩膜层的厚度不大于所述掩模支撑层的厚度。

本发明中，最终决定掩模板蒸镀效果在于掩膜层掩模开口的开口质量，在相对较薄的掩模层上可以设置质量更高的掩模开口（即制作的掩模开口边缘整齐），具有较小的高宽比（即掩模层厚度与开口尺寸比值较小），于本发明中，所述掩膜层的厚度范围为：2-20μm；所述掩模支撑层的厚度范围为：20-60μm。

作为本发明的优选，所述掩膜层的厚度为：5μm、8μm、12μm、15μm或18μm；所述掩模支撑层的厚度为：25μm、30μm、35μm、40μm、45μm或50μm。

一种实施例，构成所述开口单元的掩模开口与构成所述窗口单元的支撑窗口的开口形状均为矩形，所述掩模层上所述掩模开口的边长尺寸范围为15-40μm。

另一些实施例中，构成所述开口单元的掩模开口与构成所述窗口单元的支撑窗口的开口形状均为正六边形或八边形，所述掩模层上所述掩模开口的边长尺寸范围为10-30μm。

构成所述开口单元的掩模开口与构成所述窗口单元的支撑窗口的开口形状均也可以为圆形，所述掩模层上所述掩模开口的直径尺寸范围为15-45μm。

进一步，构成所述掩模板的掩模层的材质为有机材料。

进一步，所述掩模支撑层的材质为金属材料，其优选为不锈钢、因瓦合金或者其它镍基合金。

根据本专利背景技术中对现有技术所述，传统掩模板的构成材质全部为金属合金，本发明提供了一个完全不同于现有掩模板的技术方案，本发明的小开口蒸镀用掩模板具有以下优势：由于有金属掩模支撑层的作用，可以将构成掩模板的有机掩模层做的很薄，如此在保证掩模层的掩模开口具有较小高宽比的前提下，进一步将开口的宽度尺寸做的更小，从而使得形成的最终掩模板能够蒸镀形成分辨率更高的OLED产品。

本发明附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。

附图说明

本发明的上述和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1所示为现有技术一种用于OLED蒸镀用掩模板的结构示意图；