[发明专利]一种触控面板的制作方法、触控面板及触控显示装置在审

专利信息
申请号: 201510523259.9 申请日: 2015-08-24
公开(公告)号: CN105094444A 公开(公告)日: 2015-11-25
发明(设计)人: 陈军;张鹏宇;罗鸿强;许占齐;丁贤林;谢涛峰 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;黄灿
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 面板 制作方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种触控面板的制作方法,其特征在于,包括:

在衬底基板上形成信号线和连接桥;

在形成有所述信号线和连接桥的衬底基板上形成隔离膜,所述隔离膜覆盖所述连接桥的一部分;

在形成有所述隔离膜的衬底基板上形成由纳米银材料制成的多个第一触控电极和多个第二触控电极;所述第一触控电极和第二触控电极与所述信号线连接;

其中,每一所述第一触控电极包括多个第一子电极,相邻的第一子电极之间通过所述连接桥桥接,所述第二触控电极通过所述隔离膜与所述连接桥绝缘。

2.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,

在形成有所述隔离膜的衬底基板上形成由纳米银材料制成的多个第一触控电极和多个第二触控电极,包括:

通过涂布工艺在形成有所述隔离膜的衬底基板上,沉积一层纳米银胶;

对所述纳米银胶进行固化,得到纳米银材料层。

3.根据权利要求2所述的制作方法,其特征在于,

在形成有所述隔离膜的衬底基板上形成由纳米银材料制成的多个第一触控电极和多个第二触控电极,还包括:

在纳米银材料层上涂布第一光刻胶;

利用掩膜板对所述第一光刻胶进行曝光、显影,形成第一光刻胶保留区和第一光刻胶去除区,其中,第一光刻胶全保留区对应第一触控电极和第二触控电极的区域,所述第一光刻胶去除区对应其他区域;

对所述第一光刻胶去除区的纳米银材料层进行刻蚀,形成由纳米银材料层构成的第一触控电极和第二触控电极的图案;

保留剩余的第一光刻胶。

4.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,还包括:

在形成所述信号线和所述连接桥前,在衬底基板上形成黑边框,所述信号线与所述黑边框重叠。

5.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,

在形成有所述信号线和连接桥的衬底基板上形成隔离膜,包括:

在形成有所述信号线和连接桥的衬底基板上形成绝缘的黑边框材料层;

在黑边框材料层上涂布第二光刻胶;

利用掩膜板对所述第二光刻胶进行曝光、显影,形成第二光刻胶全保留区和第二光刻胶去除区,其中,第二光刻胶全保留区对应黑边框和隔离膜的图形区域,所述第二光刻胶去除区对应其他区域;

对所述第二光刻胶去除区的黑边框材料层进行刻蚀,形成由黑边框材料构成的黑边框以及隔离膜的图形;其中,所述信号线与所述黑边框重叠,所述连接桥位于所述黑边框之内;

去除剩余的第二光刻胶。

6.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,

所述隔离膜的制图工艺,包括:

在形成有所述信号线和连接桥的衬底基板上依次沉积透明绝缘材料层和黑边框材料层;

在所述黑边框材料层上涂布第三光刻胶;

利用半曝光掩膜板对所述第三光刻胶进行曝光并显影,形成第三光刻胶全保留区、第三光刻胶半保留区和第三光刻胶去除区,其中,所述第三光刻胶全保留区对应黑边框图案区域,所述第三光刻胶半保留区对应隔离膜图案区域,所述第三光刻胶去除区对应其他区域;

对所述第三光刻胶去除区的黑边框材料层和透明绝缘材料层进行刻蚀;

对所述第三光刻胶半保留区的第三光刻胶进行灰化;

对所述第三光刻胶半保留区的黑边框材料层进行刻蚀,形成只由透明绝缘材料层构成的隔离膜的图形和由透明绝缘材料层以及黑边框材料层构成的黑边框的图形;其中,所述信号线与所述黑边框重叠,所述连接桥位于所述黑边框之内;

去除剩余的第三光刻胶。

7.一种触控面板,其特征在于,包括:

衬底基板上;

形成在所述衬底基板上的信号线和连接桥;

至少覆盖所述连接桥的一部分的隔离膜;

由纳米银材料制成的多个第一触控电极和多个第二触控电极;所述第一触控电极和第二触控电极与所述信号线连接;其中,每一所述第一触控电极包括多个第一子电极,相邻的第一子电极之间通过所述连接桥桥接,所述第二触控电极通过所述隔离膜与所述连接桥绝缘。

8.根据权利要求1所述的触控面板,其特征在于,还包括:

黑边框,所述黑边框设置在所述衬底基板与所述信号线之间,或者与所述隔离膜同层设置;

其中,所述连接线至少一部分与所述黑边框重合。

9.一种触控显示装置,其特征在于,包括如权利要求7或8所述的触控面板。

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