[发明专利]一种触控面板的制作方法、触控面板及触控显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及触摸屏领域，特别是一种触控面板的制作方法、触控面板及触控显示装置。

背景技术

现有触控面板的触控电极使用ITO材料(一种导电玻璃)制成，ITO图层需要采用价格昂贵的镀膜工艺进行沉积，且ITO图层容易出现断裂，因此对镀膜质量以及基板平程度具有很高的要求，以至于无法支持大尺寸的触控产品。

而纳米银作为透明导电材料，则对玻璃基板的平整度要求较低，因此在基板上容易实现曲折导通。此外，纳米银导电溶液为有机材料，完全可以通过涂布工艺制成，相比于镀膜工艺，设备投资更小，因此具有很高的推广价值。

发明内容

本发明要解决的目的提供一种触控面板的制作方法、触控面板及触控触控显示装置，能够使用纳米银材料制作触控电极，从而较低设备成本，并提高触控面板的质量。

为解决上述目的，本发明的实施例提供一种触控面板的制作方法，包括：

在衬底基板上形成信号线和连接桥；

在形成有所述信号线和连接桥的衬底基板上形成隔离膜，所述隔离膜覆盖所述连接桥的一部分；

在形成有所述隔离膜的衬底基板上形成由纳米银材料制成的多个第一触控电极和多个第二触控电极；所述第一触控电极和第二触控电极与所述信号线连接；

其中，每一所述第一触控电极包括多个第一子电极，相邻的第一子电极之间通过所述连接桥桥接，所述第二触控电极通过所述隔离膜与所述连接桥绝缘。

其中，在形成有所述隔离膜的衬底基板上形成由纳米银材料制成的多个第一触控电极和多个第二触控电极，包括：

通过涂布工艺在形成有所述隔离膜的衬底基板上，沉积一层纳米银胶；

对所述纳米银胶进行固化，得到纳米银材料层。

其中，在形成有所述隔离膜的衬底基板上形成由纳米银材料制成的多个第一触控电极和多个第二触控电极，还包括：

在纳米银材料层上涂布第一光刻胶；

利用掩膜板对所述第一光刻胶进行曝光、显影，形成第一光刻胶保留区和第一光刻胶去除区，其中，第一光刻胶全保留区对应第一触控电极和第二触控电极的区域，所述第一光刻胶去除区对应其他区域；

对所述第一光刻胶去除区的纳米银材料层进行刻蚀，形成由纳米银材料层构成的第一触控电极和第二触控电极的图案；

保留剩余的第一光刻胶。

其中，所述制作方法还包括：

在形成所述信号线和所述连接桥前，在衬底基板上形成黑边框，所述信号线与所述黑边框重叠，所述连接桥位于所述黑边框之内。

其中，在形成有所述信号线和连接桥的衬底基板上形成隔离膜，包括：

在形成有所述信号线和连接桥的衬底基板上形成绝缘的黑边框材料层；

在黑边框材料层上涂布第二光刻胶；

利用掩膜板对所述第二光刻胶进行曝光、显影，形成第二光刻胶全保留区和第二光刻胶去除区，其中，第二光刻胶全保留区对应黑边框和隔离膜的图形区域，所述第二光刻胶去除区对应其他区域；

对所述第二光刻胶去除区的黑边框材料层进行刻蚀，形成由黑边框材料构成的黑边框以及隔离膜的图形；其中，所述信号线与所述黑边框重叠；

去除剩余的第二光刻胶。

其中，所述隔离膜的制图工艺，包括：

在形成有所述信号线和连接桥的衬底基板上依次沉积透明绝缘材料层和黑边框材料层；

在所述黑边框材料层上涂布第三光刻胶；

利用半曝光掩膜板对所述第三光刻胶进行曝光并显影，形成第三光刻胶全保留区、第三光刻胶半保留区和第三光刻胶去除区，其中，所述第三光刻胶全保留区对应黑边框图案区域，所述第三光刻胶半保留区对应隔离膜图案区域，所述第三光刻胶去除区对应其他区域；

对所述第三光刻胶去除区的黑边框材料层和透明绝缘材料层进行刻蚀；

对所述第三光刻胶半保留区的第三光刻胶进行灰化；

对所述第三光刻胶半保留区的黑边框材料层进行刻蚀，形成只由透明绝缘材料层构成的隔离膜的图形和由透明绝缘材料层以及黑边框材料层构成的黑边框的图形；其中，所述信号线与所述黑边框重叠，所述连接桥位于所述黑边框之内；

去除剩余的第三光刻胶。

此外，本发明的另一实施例还提供一种触控面板，包括：

衬底基板上；

形成在所述衬底基板上的信号线和连接桥；

至少覆盖所述连接桥的一部分的隔离膜；