[发明专利]曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法

说明书

本发明是根据在载台(WST1)上搭载的四个读头(60₁～60₄)中、包含互异的一个读头的三个读头所属的第1读头群与第2读头群中所含的读头面对标尺板上对应区域的区域(A₀)内，使用第1读头群所得的位置信息驱动载台(WST1)，并使用以第1及第2读头群所得的位置信息求出对应的第1及第2基准坐标系(C₁、C₂)间的偏差(位置、旋转、定标的偏差)。使用该结果修正使用第2读头群所得的测量结果，据以修正第1及第2基准坐标系(C₁、C₂)间的偏差、以及四个读头(60₁～60₄)的分别面对的标尺板上的区域彼此间的偏差伴随的测量误差。

本申请是申请号为201080037584.X、PCT国际申请日为2010年 8月24日、发明名称为“曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法” 的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法，特别涉及 在制造半导体元件等微元件(电子元件)的光刻处理所使用的曝光方法 及曝光装置、以及使用前述曝光方法或曝光装置的元件制造方法。

现有技术

一直以来，对于制造半导体元件(集成电路等)、液晶显示元件等 电子元件(微元件)的光刻处理，主要使用步进重复(step&repeat)方式 的投影曝光装置(所谓的步进机)、或步进扫描(step&scan)方式的投影 曝光装置(所谓的扫描步进机(也称为扫描机))等。

此种曝光装置，随着半导体元件高集成化的元件图案微细化，日 渐被要求要具有高重叠精度(位置对准精度)。因此，形成有图案的晶 圆或玻璃板等基板的位置测量也被要求更高的精度。

作为响应此种要求的装置，例如专利文献1中揭示了一种具备位 置测量系统统的曝光装置，此位置测量系统统是使用搭载在基板台上 的复数个编码器型传感器(编码器读头)。此曝光装置中，编码器读头 是藉由对与基板台面对配置的标尺照射测量光束、并接受来自标尺的 返回光束据以测量基板台的位置。专利文献1等所揭示的位置测量系 统统中，标尺最好是能尽可能的涵盖除了投影光学系统正下方区域外 的基板台的移动区域。因此，虽有大面积的标尺需要，但欲以高精度 制作大面积的标尺不仅非常困难且成本亦高。因此，一般制作复数个 将标尺分割为复数个部分的小面积标尺，并将其加以组合。因此，虽然希望复数个标尺间的位置对准能正确进行，但现实上，制造没有个 体误差的标尺及把标尺无误差地加起来，皆是非常困难的。

现有技术文献

[专利文献1]美国专利申请公开第2006/0227309号说明书

发明内容

本发明是在上述情形下完成的，根据第1方面，提供了使物体曝 光的第1曝光方法，其包含：在设于移动体的复数个读头中、包含至 少一个互异读头的复数个读头分别所属的复数个读头群与该移动体外 部配置成与该预定平面大致平行的测量面的对应区域分别面对的沿预 定平面移动的该移动体的第1移动区域内，求出分别对应该复数个读 头群的复数个不同基准坐标系间的偏差的修正信息的动作；以及在该 第1移动区域内，使用属于该复数个读头群的各个复数个读头求出该 移动体的位置信息，使用该位置信息与和该复数个读头群的读头群分 别对应的复数个不同基准坐标系间的偏差的该修正信息驱动该移动 体，以使保持于该移动体的物体曝光的动作。

根据此方法，即能在不受与复数个读头群的各个对应的复数个不 同基准坐标系间的偏差的影响，使用使用与复数个读头群的各个对应 的复数个读头求出的移动体的位置信息，在第1移动区域内以良好精 度驱动移动体，进而对该移动体所保持的物体进行高精度的曝光。