[发明专利]自动试样片制作装置有效
申请号: | 201510542307.9 | 申请日: | 2015-08-28 |
公开(公告)号: | CN105388048B | 公开(公告)日: | 2019-11-05 |
发明(设计)人: | 富松聪;佐藤诚;山本洋 | 申请(专利权)人: | 日本株式会社日立高新技术科学 |
主分类号: | G01N1/28 | 分类号: | G01N1/28 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 自动 试样 制作 装置 | ||
1.一种自动试样片制作装置,其从试样自动制作试样片,其特征在于,具备:
带电粒子束照射光学系统,其照射带电粒子束;
试样载物台,其放置并移动所述试样;
试样片移设单元,其保持并运送从所述试样分离和取出的所述试样片;
保持器固定座,其保持具有柱状部的试样片保持器,其中所述试样片被移设到该柱状部;
气体供给部,其供给通过所述带电粒子束的照射形成沉积膜的气体;以及
计算机,其以在所述试样片与所述柱状部之间形成所述沉积膜的方式控制所述带电粒子束照射光学系统、所述试样片移设单元和所述气体供给部,直到所述试样片移设单元与所述试样片保持器之间的电气特性达到预定状态为止。
2.根据权利要求1所述的自动试样片制作装置,其特征在于,形成有所述沉积膜的所述试样片与所述柱状部之间的间隔是1μm以下。
3.根据权利要求2所述的自动试样片制作装置,其特征在于,形成有所述沉积膜的所述试样片与所述柱状部之间的间隔是100nm以上且200nm以下。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的自动试样片制作装置,其特征在于,所述计算机在将待形成所述沉积膜的所述试样片与所述柱状部之间的间隔设定为预定间隔时,以使所述试样片与所述柱状部接触之后分开配置的方式控制所述试样片移设单元。
5.根据权利要求1至3中任一项所述的自动试样片制作装置,其特征在于,所述计算机在将所述试样片移设到所述柱状部之后,以向所述试样片移设单元与所述试样片之间的所述沉积膜照射所述带电粒子束的方式控制所述带电粒子束照射光学系统,直到所述试样片移设单元与所述试样片保持器之间的电气特性达到第2预定状态为止。
6.根据权利要求1至3中任一项所述的自动试样片制作装置,其特征在于,所述计算机将所述试样片移设单元与所述试样片保持器之间的导通状态、以及所述试样片和所述柱状部的吸收电流像中至少任一方用作所述电气特性。
7.根据权利要求6所述的自动试样片制作装置,其特征在于,所述计算机当以在所述试样片与所述柱状部之间形成所述沉积膜的方式控制所述带电粒子束照射光学系统、所述试样片移设单元和所述气体供给部时,在预定时间以内所述导通状态未达到所述预定状态的情况下,将所述吸收电流像用作所述电气特性。
8.根据权利要求1至3中任一项所述的自动试样片制作装置,其特征在于,所述计算机当以在所述试样片与所述柱状部之间形成所述沉积膜的方式控制所述带电粒子束照射光学系统、所述试样片移设单元和所述气体供给部时,在预定时间以内所述电气特性未达到所述预定状态的情况下,中断将所述试样片移设到所述柱状部的动作。
9.根据权利要求8所述的自动试样片制作装置,其特征在于,所述计算机在中断将所述试样片移设到所述柱状部的动作的情况下,以通过向所述试样片移设单元与所述试样片之间的所述沉积膜照射所述带电粒子束来使所述试样片移设单元与所述试样片分离的方式控制所述带电粒子束照射光学系统。
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