[发明专利]曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法

说明书

本申请是申请号为201080037584.X、PCT国际申请日为2010年8月24日、发明名称为“曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法”的发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法，特别涉及在制造半导体元件等微元件(电子元件)的光刻处理所使用的曝光方法及曝光装置、以及使用前述曝光方法或曝光装置的元件制造方法。

现有技术

一直以来，对于制造半导体元件(集成电路等)、液晶显示元件等电子元件(微元件)的光刻处理，主要使用步进重复(step&repeat)方式的投影曝光装置(所谓的步进机)、或步进扫描(step&scan)方式的投影曝光装置(所谓的扫描步进机(也称为扫描机))等。

此种曝光装置，随着半导体元件高集成化的元件图案微细化，日渐被要求要具有高重叠精度(位置对准精度)。因此，形成有图案的晶圆或玻璃板等基板的位置测量也被要求更高的精度。

作为响应此种要求的装置，例如专利文献1中揭示了一种具备位置测量系统统的曝光装置，此位置测量系统统是使用搭载在基板台上的复数个编码器型传感器(编码器读头)。此曝光装置中，编码器读头是藉由对与基板台面对配置的标尺照射测量光束、并接受来自标尺的返回光束据以测量基板台的位置。专利文献1等所揭示的位置测量系统统中，标尺最好是能尽可能的涵盖除了投影光学系统正下方区域外的基板台的移动区域。因此，虽有大面积的标尺需要，但欲以高精度制作大面积的标尺不仅非常困难且成本亦高。因此，一般制作复数个将标尺分割为复数个部分的小面积标尺，并将其加以组合。因此，虽然希望复数个标尺间的位置对准能正确进行，但现实上，制造没有个体误差的标尺及把标尺无误差地加起来，皆是非常困难的。

现有技术文献

[专利文献1]美国专利申请公开第2006/0227309号说明书

发明内容

本发明是在上述情形下完成的，根据第1方面，提供了使物体曝光的第1曝光方法，其包含：在设于移动体的复数个读头中、包含至少一个互异读头的复数个读头分别所属的复数个读头群与该移动体外部配置成与该预定平面大致平行的测量面的对应区域分别面对的沿预定平面移动的该移动体的第1移动区域内，求出分别对应该复数个读头群的复数个不同基准坐标系间的偏差的修正信息的动作；以及在该第1移动区域内，使用属于该复数个读头群的各个复数个读头求出该移动体的位置信息，使用该位置信息与和该复数个读头群的读头群分别对应的复数个不同基准坐标系间的偏差的该修正信息驱动该移动体，以使保持于该移动体的物体曝光的动作。

根据此方法，即能在不受与复数个读头群的各个对应的复数个不同基准坐标系间的偏差的影响，使用使用与复数个读头群的各个对应的复数个读头求出的移动体的位置信息，在第1移动区域内以良好精度驱动移动体，进而对该移动体所保持的物体进行高精度的曝光。

根据本发明第2方面，使物体曝光的第2曝光方法，其包含：为使该物体曝光，根据在保持该物体的移动体上搭载的第1数目的读头中、分别属于包含互异的至少一个读头的第1读头群与第2读头群的各个的第2数目的读头在与测量面上对应的区域分别面对的预定区域内，使用该第1、第2读头群所得的第1位置信息和第2位置信息的至少一方驱动该移动体的动作。

根据此方法，即使与第1读头、第2读头对应的坐标系不同，亦能不受其影响而高精度的驱动移动体。

根据本发明第3方面，使物体曝光的第1曝光装置，其包含：移动体，保持物体沿预定平面移动；位置测量系统，根据设于该移动体的复数个读头中、对在对该物体的曝光位置近旁于该移动体外部配置成与该预定平面大致平行的测量面照射测量光束并接收来自该测量面的返回光束的读头的输出，求出该移动体的位置信息；以及控制系统，根据以该位置测量系统取得的该位置信息驱动该移动体，并根据该移动体的位置从该复数个读头中切换该位置测量系统用以取得该位置信息的读头；该控制系统在该复数个读头面对该测量面的该移动体的第1移动区域内，修正对应该复数个读头的复数个基准坐标系间的相互偏差。

根据此装置，由于复数个基准坐标系彼此间的偏差受到修正，因此可使用复数个读头高精度测量移动体的位置信息，进行驱动(位置控制)。