[发明专利]一种直接生长法合成CdSe/P3HT复合纳米晶的方法在审

专利信息
申请号: 201510555371.0 申请日: 2015-08-28
公开(公告)号: CN105200523A 公开(公告)日: 2015-12-30
发明(设计)人: 吴瑞凤;施和平 申请(专利权)人: 内蒙古工业大学
主分类号: C30B29/60 分类号: C30B29/60;C30B29/54
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 010051 内蒙古*** 国省代码: 内蒙古;15
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摘要:
搜索关键词: 一种 接生 长法 合成 cdse p3ht 复合 纳米 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及聚合物太阳能光伏电池材料制备领域领域,具体为一种直接生长法合成CdSe/P3HT复合纳米晶的方法。

背景技术

无机-有机半导体纳米晶杂化共混体系制备的有机-无机杂化太阳能电池既有有机电池的优点,又有无机半导体的很多优良性能,具有良好的发展前景,因此成为科学家们研究的热点。目前用于聚合物太阳能电池的CdSe纳米晶大多采用TOPO法(有机液相合成法的一种)制备。该法制备的纳米晶有好的形貌和结晶度,但反应条件苛刻,需要使用含膦溶剂TOPO和前驱体TOP,反应后难以去除,影响光电转换效率,且制备成本高,对环境不友好。

因此近年来有少量研究报道采用一步生长法制备无机/有机复合纳米晶。一步生长法也叫直接生长法或原位生长法,该法无需采用TOP为前驱体,也无需TOPO做溶剂,因此操作条件简便,且环境友好,成本低,但是目前一步生长法制备无机/有机复合纳米晶的反应温度居高不下是困扰有机金属液相法制备CdE(E=S,Se,Te)半导体纳米晶的一大难题,尽管文献中曾有过一些有益的探索但所用的前驱体来源极其有限。

发明内容

本发明要解决的技术问题是克服现有技术中采用TOPO法制备法CdSe/P3HT复合纳米晶反应条件苛刻、制备成本高,对环境不友好,而一步生长法制备时反应温度过高的缺陷,提供一种直接生长法合成CdSe/P3HT复合纳米晶的方法。

为了解决上述技术问题,本发明提供了如下的技术方案:

一种直接生长法合成CdSe/P3HT复合纳米晶的方法,包括以下几个步骤:

1)、将聚合物P3HT6重量份、Se粉79~395重量份,硬脂酸镉340~680重量份,三氯苯1体积份、ODE15体积份,倒入反应釜中充分搅拌,在140~240℃下反应5~25h;

其中,重量份和体积份的对应关系为:1克重量对应1升体积;

2)、冷却,加入丙酮洗涤,沉淀,离心,3000r的条件下,离心分离5~10分钟,弃去上清液,将沉淀用过量正己烷溶解,洗涤干燥后即得所述的CdSe/P3HT复合纳米晶。

优选的,所述硬脂酸镉与Se粉的摩尔比为1∶1,反应温度为180℃,反应时间为15h,

进一步的,步骤2)中的清洗方式是超声清洗20分钟。

CdSe超结构杂化纳米晶尺寸为,平均为5.3nm。

本发明采用直接生长法合成CdSe/P3HT复合纳米晶,将反应温度显著降低,非常有利于大规模工业化生产的实施,生成的CdSe/P3HT纳米晶为零维纳米微球结构,尺寸约为5~20nm,平均约5.3nm,其尺寸与形貌分布很均匀,排列整齐,具有较好的光电转化效率和较好的热稳定性,分解温度在210℃以上,而且本方法的反应体系中不使用具有强毒性、价格昂贵的有机膦化合物,在提倡“绿色化学”的今天,这种更为环保的方法具有现实意义。

附图说明

附图用来提供对本发明的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本发明的实施例一起用于解释本发明,并不构成对本发明的限制。在附图中:

图1是CdSe/P3HT的DSC曲线图;

图2是CdSe/P3HT的XRD表征;

图3是CdSe/P3HT的形貌表征。

具体实施方式

以下结合附图对本发明的优选实施例进行说明,应当理解,此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本发明,并不用于限定本发明。

实施例1

一种直接生长法合成CdSe/P3HT复合纳米晶的方法,包括以下几个步骤:

1)、将聚合物P3HT6g、Se粉79g,硬脂酸镉340g,三氯苯1L、ODE15L,倒入反应釜中充分搅拌,在140℃下反应25h;

2)、冷却,加入丙酮洗涤,沉淀,离心,3000r的条件下,离心分离5~10分钟,弃去上清液,将沉淀用过量正己烷溶解,洗涤干燥后即得所述的CdSe/P3HT复合纳米晶。

CdSe超结构杂化纳米晶尺寸为,平均为20nm左右。

实施例2

一种直接生长法合成CdSe/P3HT复合纳米晶的方法,包括以下几个步骤:

1)、将聚合物P3HT6g、Se粉395g,硬脂酸镉340g,三氯苯1L、ODE15L,倒入反应釜中充分搅拌,在180℃下反应15h

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