[发明专利]一种涂布膜厚的检测系统及方法在审
申请号: | 201510556603.4 | 申请日: | 2015-09-01 |
公开(公告)号: | CN105115432A | 公开(公告)日: | 2015-12-02 |
发明(设计)人: | 吴利峰;李启明;徐海乐;丁鹏;徐先华;熊燕军 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06 |
代理公司: | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黄威 |
地址: | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 涂布膜厚 检测 系统 方法 | ||
【技术领域】
本发明涉及检测技术领域,特别涉及一种涂布膜厚的检测系统及方法。
【背景技术】
在TFT-LCD的彩膜基板涂布工艺中,涂布机涂布完成后的PR膜厚检测一般是在经过真空干燥及前烘工艺后通过THK(ThicknessMeasure)进行光学量测,该流程对涂布膜厚的检测存在滞后性,对膜厚异常情况的发生通常无法及时发现,确认及后续改善工作都需花费较多的时间进行再确认,随着市场对高精细及高分辨率产品的需求,彩膜基板涂布工艺上的膜厚均一性要求越来越严格,涂布膜厚Matrix分布情况实时监测也变得更为重要,传统THK光学膜厚量测的方法在检测时效性及改善的及时性上都存在一定的弊端,滞后进行改善时不仅会对产品的品质及良率提高产生影响,降低生产产能,另外由于经过了真空干燥及前烘工艺,所量测膜厚需要建立Database进行参考,工艺条件发生变化,THK的数据往往还难以真实的反应实际膜厚的准确度。
故,有必要提出一种新的技术方案,以解决上述技术问题。
【发明内容】
本发明的目的在于提供一种涂布膜厚的检测系统及方法,旨在解决现有技术存在的THK光学量测方式的膜厚检查滞后性的问题,同时避免过长的确认时间及工艺参数变化时对产品品质及良率提升的影响。
为解决上述问题,本发明的技术方案如下:
一种涂布膜厚的检测系统,所述涂布膜厚的检测系统包括:
一探针,用于扫描PR膜层表面;
一反馈电路,用于控制扫描头在垂直方向上移动,以使扫描过程中每一点上所述探针和PR膜层表面之间的作用力保持恒定;
一光电检测器,用于将反射的激光束转化成电脉冲信号;
一计算机,用于将所述电脉冲信号转换成或明或暗的区域,以作为所述PR膜层厚度的原始数据。
优选的,在所述的涂布膜厚的检测系统中,所述涂布膜厚的检测系统还包括:
一微悬臂,用于固定所述探针。
优选的,在所述的涂布膜厚的检测系统中,所述微悬臂由氮化硅及金合成材料制成。
优选的,在所述的涂布膜厚的检测系统中,所述涂布膜厚的检测系统还包括:
一激光器,用于向所述微悬臂发射激光束;
一反光镜,用于将所述激光束反射至所述光电检测器。
优选的,在所述的涂布膜厚的检测系统中,所述涂布膜厚的检测系统还包括:
一扫描头,与所述微悬臂连接,用于控制探针和PR膜层表面之间的作用力保持恒定。
一种涂布膜厚的检测方法,所述涂布膜厚的检测方法包括:
扫描PR膜层表面;
控制扫描头在垂直方向上移动,以使扫描过程中每一点上探针和PR膜层表面之间的作用力保持恒定;
将反射的激光束转化成电脉冲信号;
将所述电脉冲信号转换成或明或暗的区域,以作为所述PR膜层厚度的原始数据。
优选的,在所述的涂布膜厚的检测方法中,通过微悬臂来固定探针,探针扫描PR膜层表面。
优选的,在所述的涂布膜厚的检测方法中,所述微悬臂由氮化硅及金合成材料制成。
优选的,在所述的涂布膜厚的检测方法中,所述涂布膜厚的检测方法还包括:
向所述微悬臂发射激光束;
将所述激光束反射至光电检测器,光电检测器将反射的激光束转化成电脉冲信号。
优选的,在所述的涂布膜厚的检测方法中,所述涂布膜厚的检测方法还包括:
将扫描头与所述微悬臂连接,扫描头控制探针和PR膜层表面之间的作用力保持恒定。
相对现有技术,本发明在涂布机机架的喷嘴后端配置涂布膜厚的检测系统,涂布膜厚的检测系统在涂布过程中随喷嘴一起运动并实时量测涂布膜厚,通过探测探针与涂布PR之间微弱的相互作用力来获得PR膜层的表面形貌的信息,从而得到涂布PR膜厚的信息。本发明相比较与传统的膜厚量测的方法更加准确,量测时间更短,无需设置复杂的光学系统,量测与涂布过程同步进行,实现涂布膜厚的实时在线测量,可实时控制和调整涂布的膜厚,对监控涂布工艺的稳定性起着至关重要的作用。另外,检测时效性及时迅速,系统响应速度快,膜厚异常时极大的降低风险时间及glassloss数量,涂布过程易控,避免了THK量测膜厚另需建立database的情况,同时避免在发生工艺条件变化时引起的膜厚变化需要做大量的再确认工作。
为让本发明的上述内容能更明显易懂,下文特举优选实施例,并配合所附图式,作详细说明如下。
【附图说明】
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司,未经武汉华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510556603.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。