[发明专利]一种坩埚、真空蒸镀装置及系统

权利要求书

1.一种坩埚，其特征在于，包括：坩埚主体、喷嘴及容纳槽；所述坩埚主体用于容纳蒸发材料，所述喷嘴设置于所述坩埚主体的开口部；所述容纳槽开设在所述喷嘴的外围，用于收纳从所述喷嘴溢出的蒸发材料。

2.根据权利要求1所述的坩埚，其特征在于，所述坩埚主体包括：相连的上腔体和下腔体；所述上腔体呈自下而上的收缩状，且其顶部设有所述开口部。

3.根据权利要求2所述的坩埚，其特征在于，所述上腔体的内壁上环设有多层挡板。

4.根据权利要求3所述的坩埚，其特征在于，所述挡板包括倾斜段和折弯段；所述倾斜段的一端环设于所述上腔体的内壁上，另一端倾斜向上延伸并与所述折弯段的一端连接；所述折弯段的另一端倾斜向下设置。

5.根据权利要求3所述的坩埚，其特征在于，所述挡板由与铝液不浸润的材质制成。

6.根据权利要求1所述的坩埚，其特征在于，所述喷嘴呈自下而上的扩张状。

7.根据权利要求6所述的坩埚，其特征在于，所述容纳槽由所述喷嘴的外壁与一连接侧壁围成；所述连接侧壁环设在所述喷嘴的外围，且其一端与所述喷嘴的底部连接。

8.一种真空蒸镀装置，其特征在于，包括加热源和如权利要求1-7中任一项所述的坩埚，所述加热源用于对所述坩埚加热。

9.根据权利要求8所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述加热源包括加热室和加热器，所述加热室设置在所述坩埚的外围，所述加热器设置在所述加热室与所述坩埚之间。

10.一种真空蒸镀系统，其特征在于，包括如根据权利要求8所述的真空蒸镀装置。