[发明专利]曝光装置、曝光方法及设备制造方法

权利要求书

1.一种用于以预定的顺序对基板上的多个照射区区域中的每个照射区区域执行曝光的曝光装置，所述曝光装置包括：

投影光学系统，配置成将原版的图案投影到所述多个照射区区域中的每个照射区区域上；

调整单元，配置成调整所述投影光学系统的成像特性；以及

控制器，配置成基于在所述多个照射区区域中的每个照射区区域中的移动的数据和曝光顺序，将所述多个照射区区域划分为组，为每个划分的组确定成像特性的设定量，控制所述调整单元针对组将成像特性设置为所确定的设定量，并执行对组中的多个照射区区域的每一个执行曝光，

其中，确定的组的设定量是组中的多个照射区区域共用的，在划分的组间是不同的，以及

其中，所述控制器执行划分，以使得属于同一组的照射区区域具有连续的曝光顺序，且属于同一组的照射区区域中的所有移动的值落在预定范围内。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，所述曝光装置还包括：

存储单元，配置成存储所述移动的数据，

其中，所述控制器基于所述存储单元存储的所述移动的数据将所述多个照射区区域划分为组。

3.根据权利要求1所述的曝光装置，所述曝光装置还包括：

测量设备，配置成测量所述多个照射区区域中的每个照射区区域的移动，

其中，所述控制器基于所述测量设备所测量的所述移动的数据而将所述多个照射区区域划分为组。

4.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，所述移动包括所述多个照射区区域中的每个照射区区域的形状的移动，以及所述成像特性包括所述投影光学系统的投影倍率和畸变中的一个。

5.根据权利要求4所述的曝光装置，其中，所述调整单元包括光学元件驱动器，所述光学元件驱动器配置成驱动构成所述投影光学系统的光学元件。

6.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，所述移动包括所述多个照射区区域中的每个照射区区域的散焦，以及所述成像特性包括所述投影光学系统的聚焦位置。

7.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，所述控制器基于属于同一组的照射区区域中的移动的最大值和最小值之间的算术平均值来确定共用的设定量。

8.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，所述控制器基于属于同一组的照射区区域中的所有移动的值的算术平均值来确定共用的设定量。

9.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，所述控制器基于属于同一组的照射区区域中的所有移动的值的加权平均值来确定共用的设定量。

10.一种用于对基板上的多个照射区区域连续执行曝光的曝光装置，所述曝光装置包括：

投影光学系统，配置成将原版的图案投影到多个照射区区域的每一个上；

调整单元，配置成调整所述投影光学系统的成像特性；以及

控制器，配置成控制所述调整单元确定所述成像特性的设定量，以及将所述成像特性设置为所述设定量，

其中，所述控制器

针对连续的曝光顺序中的多个照射区区域的组，针对该组将共用的第一设定量设置为所述设定量，并控制所述调整单元，以使得在对该组曝光时所述成像特性变成第一设定量，以及

针对紧接在所述多个照射区区域的组前或组后曝光的其他照射区区域，将不同于所述第一设定量的第二设定量针对所述其他照射区区域设置为所述设定量，并控制所述调整单元，以使得在对所述其他照射区区域曝光时成像特性变成所述第二设定量。

11.根据权利要求10所述的曝光装置，其中，在将所述组设置为第一组的情况下，针对不同于第一组的且包括所述其他照射区区域的、连续的曝光顺序中的多个照射区区域的第二组，所述控制器设置第二设定量，并控制所述调整单元在对所述第二组曝光时将所述成像特性设置为所述第二设定量。