[发明专利]一种显示基板及其制作方法和显示面板在审
申请号: | 201510574883.1 | 申请日: | 2015-09-10 |
公开(公告)号: | CN105137636A | 公开(公告)日: | 2015-12-09 |
发明(设计)人: | 谭纪风;陈立强 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1333 | 分类号: | G02F1/1333 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示 及其 制作方法 面板 | ||
1.一种显示基板,所述显示基板包括衬底基板,设置在所述衬底基板上的显示区域、PAD区域,其特征在于,
所述显示基板还包括至少覆盖与对盒基板的切割线对应的切割区域的缓冲层,用于防止在切割的过程中激光对PAD区域的金属线受到损坏;其中,所述切割区域为所述显基板上与所述切割线对应位置两侧预设范围内的区域。
2.如权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述缓冲层包括多层交替设置的高折射率材料层和低折射率材料层。
3.如权利要求2所述的显示基板,其特征在于,所述缓冲层中高折射率材料层和低折射率材料层的总层数为5~20层,每层高折射率材料层或低折射率材料层的厚度为20~80nm。
4.如权利要求2所述的显示基板,其特征在于,所述高折射率材料包括:氧化镁、氮化硅、五氧化二钽、氧化锌和二氧化钛中的一种或多种;所述低折射率材料包括:氟化镁、氧化硅、三氧化二硅和氮化钛中的一种或多种。
5.如权利要求4所述的显示基板,其特征在于,所述缓冲层包括交替设置的4个氮化硅层和4个氧化硅层。
6.如权利要求2所述的显示基板,其特征在于,所述缓冲层面向所述衬底基板的一侧为所述缓冲层的底部,位于所述缓冲层底部的材料层为高折射率材料层。
7.权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述缓冲层的长度与所述显示基板的短边长度相同。
8.如权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板还包括设置在显示区域中的薄膜晶体管和像素电极;所述缓冲层设置在所述薄膜晶体管所在层与所述像素电极所在层之间。
9.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括权利要求1~8任一权项所述的显示基板。
10.一种显示基板的制作方法,所述方法包括在衬底基板上形成显示区域的步骤和形成PAD区域的步骤,其特征还在于,所述方法还包括在所述衬底基板上与对盒基板的切割线对应的切割区域形成缓冲层的步骤,用于防止在切割的过程中激光对PAD区域的金属线受到损坏;其中,所述切割区域为所述显示基板上与所述切割线对应位置两侧预设范围内的区域。
11.如权利要求10所述的方法,其特征在于,所述形成缓冲层的步骤包括:
采用高折射率材料和低折射率材料,形成包含多层交替设置的高折射率材料层和低折射率材料层的缓冲层。
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