[发明专利]一种日盲反射式介质滤光片及其制备方法在审
申请号: | 201510578998.8 | 申请日: | 2015-09-11 |
公开(公告)号: | CN105137515A | 公开(公告)日: | 2015-12-09 |
发明(设计)人: | 王孝东;陈波;王海峰;刘世界;郑鑫;马月英 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20;C23C14/26;C23C14/30;C23C14/06 |
代理公司: | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人: | 刘慧宇 |
地址: | 130033 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 反射 介质 滤光 及其 制备 方法 | ||
1.一种日盲反射式介质滤光片,其特征是,该滤光片包括:基底和LaF3/MgF2非周期多层膜;所述LaF3/MgF2多层膜制作在基底上;LaF3和MgF2交替沉积在基底上,靠近基底侧膜层为LaF3,最外层也是LaF3;多层膜的层数为10-25层。
2.根据权利要求1所述的一种日盲反射式介质滤光片,其特征在于,基底表面粗糙度小于1nm。
3.根据权利要求1所述的一种日盲反射式介质滤光片,其特征在于,每层LaF3薄膜的物理厚度在10-60nm之间,每层MgF2薄膜的物理厚度在10-80nm之间。
4.一种日盲波段反射式介质滤光片的制备方法,其特征是,该方法包括如下步骤:
步骤一,将清洗后的基底装入清洁的真空室内,抽真空至3.0×10-4Pa;
步骤二,将基底加热到150-250℃之间的某一温度,并保持60min;
步骤三,采用电阻蒸发法沉积LaF3,采用电子束蒸发法沉积MgF2,LaF3和MgF2交替沉积在基底上;LaF3膜层的沉积速率为0.4~0.6nm/s,MgF2膜层的沉积速率为0.7~0.9nm/s;每层LaF3薄膜的物理厚度在10-60nm之间,每层MgF2薄膜的物理厚度在10-80nm之间,膜层厚度采用晶振法控制;
步骤四,基底自然冷却至室温,得到所述的日盲波段反射式介质滤光片。
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