[发明专利]一种日盲反射式介质滤光片及其制备方法在审
申请号: | 201510578998.8 | 申请日: | 2015-09-11 |
公开(公告)号: | CN105137515A | 公开(公告)日: | 2015-12-09 |
发明(设计)人: | 王孝东;陈波;王海峰;刘世界;郑鑫;马月英 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | G02B5/20 | 分类号: | G02B5/20;C23C14/26;C23C14/30;C23C14/06 |
代理公司: | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人: | 刘慧宇 |
地址: | 130033 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 反射 介质 滤光 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种日盲反射式介质滤光片及其制备方法,具体地说,涉及一种在240-280nm谱段具有高反射率,同时在281-760nm谱段反射率抑制的反射式介质滤光片;属于光学薄膜技术领域。
背景技术
一般的,太阳光谱中,240-280nm辐射被称为日盲波段。之所以被称为日盲,是由于该波段太阳辐射在通过地球大气层时几乎被臭氧层完全吸收。换句话说,地球表面上日盲波段背景噪声极低。这就为日盲波段辐射目标的探测和识别提供了一个天然的有利条件。日盲波段辐射目标的探测和识别已经被广泛应用在火灾预警,电力输送中高压电晕探测,导弹尾焰探测,隐秘通信,化学、生物传感等领域。
在日盲波段辐射目标的探测和识别系统中,日盲滤光片是关键的光学元件,分透射式和反射式两种。它能够选择性的实现240-280nm光波的输出,同时,强烈地抑制281-760nm辐射的输出。目前,一般使用两层膜Al/MgF2来实现该波段的高反射率(大于85%),但是其在工作波段外仍有较高的反射率(大于85%),破坏了探测光谱的纯度。
发明内容
本发明为了满足日盲波段辐射目标的探测和识别系统的需要,提供一种日盲波段反射式介质滤光片及其制备方法,该滤光片在240-280nm波段有较高的反射率,同时,在281-760nm波段的反射率得到了有效抑制。
本发明解决技术问题所采用的技术方案如下:
一种日盲反射式介质滤光片,其特征是,该滤光片包括:基底和LaF3/MgF2非周期多层膜;所述LaF3/MgF2多层膜制作在基底上;LaF3和MgF2交替沉积在基底上,靠近基底侧膜层为LaF3,最外层也是LaF3;多层膜的层数为10-25层。
基底表面粗糙度小于1nm。
每层LaF3薄膜的物理厚度在10-60nm之间,每层MgF2薄膜的物理厚度在10-80nm之间。
一种本发明所述的日盲波段反射式介质滤光片的制备方法,其特征是,该方法包括如下步骤:
步骤一,将清洗后的基底装入清洁的真空室内,抽真空至3.0×10-4Pa;
步骤二,将基底加热到150-250℃之间的某一温度,并保持60min;
步骤三,采用电阻蒸发法沉积LaF3,采用电子束蒸发法沉积MgF2,LaF3和MgF2交替沉积在基底上;LaF3膜层的沉积速率为0.4~0.6nm/s,MgF2膜层的沉积速率为0.7~0.9nm/s;每层LaF3薄膜的物理厚度在10-60nm之间,每层MgF2薄膜的物理厚度在10-80nm之间,膜层厚度采用晶振法控制;
步骤四,基底自然冷却至室温,得到日盲波段反射式介质滤光片。
本发明的有益效果:
1、本发明提供了一种日盲波段反射式介质滤光片,该滤光片达到优良技术指标:在日盲波段的平均反射率是36.5%,在281-760nm平均反射率是1.8%,抑制比是20.3:1,该滤光片满足了日盲波段辐射目标探测系统的使用要求,提高了日盲波段辐射目标探测系统的识别能力。
2、本发明提供了一种日盲波段反射式介质滤光片的设计方法,该方法是OptiLayer软件中的Sensitivity-DirectedRefinement功能,该设计方法简单,设计的膜系包括交替叠加的LaF3和MgF2膜层,膜系层数少于20层,选用的材料为常用的材料,且层数少,易于制备。
3、本发明提供了一种日盲波段反射式介质滤光片的制备方法,该方法可制得本发明所述的滤光片,操作简便,工艺稳定,重复性好,产品成品率高。
附图说明
图1:本发明一种日盲波段反射式介质滤光片结构示意图。
图2:本发明波长在200-760nm中多层LaF3/MgF2多层膜(1/4波长周期多层膜,优化非周期膜系),波长与反射率之间关系的理论计算示意图,入射角0°。
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