[发明专利]抗蚀剂剥离剂组合物、平板显示器的制法及平板显示器

说明书

本发明公开了一种抗蚀剂剥离剂组合物，包括：由以下化学式1表示的化合物(A)；包括伯烷醇胺和叔烷醇胺的烷醇胺(B)；伯醇(C)；以及极性非质子溶剂(D)；本发明还公开了一种用于制造平板显示器基板的方法以及一种平板显示器基板，

技术领域

本发明涉及一种抗蚀剂剥离剂组合物。更具体地，本发明涉及抗蚀剂剥离剂组合物、使用该抗蚀剂剥离剂组合物制造平板显示器基板的方法以及由该方法制造的平板显示器基板，其中，所述抗蚀剂剥离剂组合物表现出优异的剥离能力，同时使抗蚀剂剥离过程中对金属布线的腐蚀最小化。

背景技术

随着对高分辨率平板显示器需求的增加，人们已经努力提高每单位面积的像素数，例如，通过诸如干蚀刻工艺的严苛制造程序来减小布线的宽度。而且，扩大平板显示器需要提高信号在布线中的传输速度，这通过采用铜作为布线原料实现了，因为铜的电阻率比铝的电阻率低。因此，剥离工艺中必须使用高性能剥离剂。

具体地，剥离剂需要具有去除干蚀刻后形成的残渣的能力，并且具有针对金属布线(尤其是铜和铝)的抗腐蚀性能。此外，为了成本的竞争力，剥离剂应为经济上有益的，使得它能处理大量基板片材。

通常使用诸如单乙醇胺、单异丙醇胺等水溶性有机胺或者诸如γ-丁内酯和DMSO的有机溶剂来去除抗蚀剂。为了防止金属的胺致腐蚀，使用诸如儿茶酚、间苯二酚、苯并三唑等多种抗腐蚀剂，并且已提出含有这些抗腐蚀剂的抗蚀剂剥离剂组合物。

然而，已知的是，常规的光致抗蚀剂剥离剂组合物在加工或长期储存过程中在剥离性能、处理量以及低稳定性方面存在问题。例如，公开号为10-2006-0117666的未经审查的韩国专利申请公开了一种光致抗蚀剂剥离剂组合物，其包括与本发明的化学式1相同的化合物以及作为活性成分的有机胺化合物，并且必需两种或更多种不同的抗腐蚀剂来防止金属布线的腐蚀。因此，极有可能在剥离过程之后在布线上残留有抗腐蚀剂。此外，这些抗腐蚀剂的存在可能导致抗蚀剂剥离剂组合物在长期储存中变色和剥离性能的劣化，诸如延长剥离时间。

因此，需要一种抗蚀剂剥离剂组合物，该抗蚀剂剥离剂组合物能够克服在相关领域中遇到的问题，并且表现出优异的抗腐蚀效果以及快速且优异的剥离性质。

[相关领域的文献]

[专利文献]

公开号为10-2006-0117666未经审查的韩国专利申请

发明内容

因此，牢记现有技术中存在的上述问题作出了本发明，并且本发明的目的是提供一种抗蚀剂剥离剂组合物，该抗蚀剂剥离剂组合物对抗蚀剂残渣具有强去除能力，对金属布线(诸如铜和铝布线)具有优异的抗腐蚀性能，并且能够有效地防止由于基板上的抗蚀剂残渣与去离子水接触而导致的污渍的形成。

本发明的另一目的是提供一种使用所述组合物制造平板显示器的方法，以及由该方法制造的平板显示器。

为了实现上述目的，本发明的一个方面提供一种抗蚀剂剥离剂组合物，包括：

由以下化学式1表示的化合物(A)；

包括伯烷醇胺(primary alkanolamine)和叔烷醇胺(tertiary alkanolamine)的烷醇胺(B)；

伯醇(C)；以及

极性非质子溶剂(D)；

[化学式1]

其中，R1至R8各自独立地为氢原子或C1～C4烷基。

本发明的另一方面提供一种用于制造平板显示器基板的方法，所述方法包括使用所述抗蚀剂剥离剂组合物清洗所述平板显示器基板。

本发明的又一方面提供一种由上述方法制造的平板显示器基板。