[发明专利]阵列基板、显示装置及阵列基板的制备方法有效

专利信息
申请号: 201510593910.X 申请日: 2015-09-17
公开(公告)号: CN105280649B 公开(公告)日: 2018-10-19
发明(设计)人: 徐向阳 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L23/552;H01L21/77
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 何青瓦
地址: 518006 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 阵列 显示装置 制备 方法
【说明书】:

发明提供了一种阵列基板、显示装置及阵列基板的制备方法。阵列基板包括显示区域和GOA区域。显示区域包括显示区域TFT,显示区域交叉设置有数据线和栅线。GOA区域包括GOA区域TFT、GOA区域电极层和电路保护层,GOA区域设有至少一个第一过孔和至少一个第二过孔,第一过孔的底部为数据线金属层,第二过孔的底部为栅线金属层;GOA区域电极层通过第一过孔与GOA区域TFT电连接,GOA区域电极层通过第二过孔与外部驱动电路电连接,电路保护层覆盖在GOA区域的上方,用于屏蔽外部电磁干扰及保护GOA区域的电路免受腐蚀。本发明能保护保护GOA区域的电路免受电磁干扰和腐蚀,提升了屏幕的品质。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种阵列基板、显示装置及阵列基板的制备方法。

背景技术

在GOA(Gate Driver on Array,阵列基板行驱动)技术中,GOA单元集成在显示装置的阵列基板上,阵列基板包括显示区域和GOA区域,其中,显示区域上交叉设置有数据线和栅线。GOA区域分布了多个GOA单元,该GOA区域包括多个薄膜晶体管(Thin-filmtransistor,TFT),各GOA单元分别与阵列基板上的各条栅线相连,从而实现对栅线的扫描驱动。

GOA阵列基板的制作过程大致为:首先在衬底基板上制作TFT,该些TFT包括位于显示区域TFT 101阵列和位于GOA区域12的用于构成GOA单元的GOA区域TFT 102(如图1所示),然后在GOA区域12制作第一过孔103和第二过孔104,之后沉积导电薄膜并形成需要的图形:在显示区域11的导电薄膜105形成为像素电极或者公共电极,在GOA区域12的导电薄膜106通过第一过孔103电连接GOA单元中的各TFT102,通过第二过孔104实现外部驱动电路与阵列基板上的各元件(数据线、GOA单元等)的绑定。

GOA区域的导电薄膜106位于最上方,显露在外面,在显示装置的长期使用过程中,GOA单元中的第一过孔103上方及周围的导电薄膜106长时间处于低电位的工作状态,并且位于靠近封框胶的位置,容易受到外部电磁干扰,并且经常处于高温、高湿、污染、应力等环境下,造成该位置处的导电薄膜106容易发生电化学腐蚀,导电薄膜106劣化甚至烧毁,最终引起屏幕显示异常。

发明内容

本发明提供一种阵列基板、显示装置及阵列基板的制备方法,能够解决现有技术存在的GOA区域上的导电薄膜易受外部电磁干扰和易受腐蚀的问题。

为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是:提供一种阵列基板,该阵列基板包括显示区域和GOA区域。显示区域包括显示区域TFT,所述显示区域交叉设置有数据线、栅线、下层透明电极和上层透明电极;GOA区域包括GOA区域TFT、GOA区域电极层和电路保护层,所述GOA区域设置有至少一个第一过孔和至少一个第二过孔,所述第一过孔的底部为数据线金属层,所述第二过孔的底部为栅线金属层;所述GOA区域电极层通过所述第一过孔与所述GOA区域TFT电连接,所述GOA区域电极层通过所述第二过孔与外部驱动电路电连接,其中,所述GOA区域电极层与所述下层透明电极利用同层同构图工艺形成,所述电路保护层与所述上层透明电极利用同层同构图工艺形成;所述显示区域和所述GOA区域之上覆盖有第一绝缘层和第二绝缘层;所述下层透明电极设在所述第一绝缘层和所述第二绝缘层之间,所述上层透明电极设在第二绝缘层之上;所述电路保护层覆盖在所述GOA区域的上方,用于屏蔽外部电磁干扰及保护所述GOA区域的电路免受腐蚀;其中,所述GOA区域电极层与所述下层透明电极同层,所述电路保护层与所述上层透明电极同层;所述下层透明电极为像素电极,所述上层透明电极为公共电极;或者,所述下层透明电极为公共电极,所述上层透明电极为像素电极。

其中,所述GOA区域电极层和所述电路保护层均为透明导电薄膜。

为解决上述技术问题,本发明采用的另一个技术方案是:提供一种显示装置,该显示装置包括上述阵列基板。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司,未经深圳市华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510593910.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top