[发明专利]阵列基板、显示装置及阵列基板的制备方法有效
申请号: | 201510593910.X | 申请日: | 2015-09-17 |
公开(公告)号: | CN105280649B | 公开(公告)日: | 2018-10-19 |
发明(设计)人: | 徐向阳 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L23/552;H01L21/77 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 何青瓦 |
地址: | 518006 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 阵列 显示装置 制备 方法 | ||
本发明提供了一种阵列基板、显示装置及阵列基板的制备方法。阵列基板包括显示区域和GOA区域。显示区域包括显示区域TFT,显示区域交叉设置有数据线和栅线。GOA区域包括GOA区域TFT、GOA区域电极层和电路保护层,GOA区域设有至少一个第一过孔和至少一个第二过孔,第一过孔的底部为数据线金属层,第二过孔的底部为栅线金属层;GOA区域电极层通过第一过孔与GOA区域TFT电连接,GOA区域电极层通过第二过孔与外部驱动电路电连接,电路保护层覆盖在GOA区域的上方,用于屏蔽外部电磁干扰及保护GOA区域的电路免受腐蚀。本发明能保护保护GOA区域的电路免受电磁干扰和腐蚀,提升了屏幕的品质。
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种阵列基板、显示装置及阵列基板的制备方法。
背景技术
在GOA(Gate Driver on Array,阵列基板行驱动)技术中,GOA单元集成在显示装置的阵列基板上,阵列基板包括显示区域和GOA区域,其中,显示区域上交叉设置有数据线和栅线。GOA区域分布了多个GOA单元,该GOA区域包括多个薄膜晶体管(Thin-filmtransistor,TFT),各GOA单元分别与阵列基板上的各条栅线相连,从而实现对栅线的扫描驱动。
GOA阵列基板的制作过程大致为:首先在衬底基板上制作TFT,该些TFT包括位于显示区域TFT 101阵列和位于GOA区域12的用于构成GOA单元的GOA区域TFT 102(如图1所示),然后在GOA区域12制作第一过孔103和第二过孔104,之后沉积导电薄膜并形成需要的图形:在显示区域11的导电薄膜105形成为像素电极或者公共电极,在GOA区域12的导电薄膜106通过第一过孔103电连接GOA单元中的各TFT102,通过第二过孔104实现外部驱动电路与阵列基板上的各元件(数据线、GOA单元等)的绑定。
GOA区域的导电薄膜106位于最上方,显露在外面,在显示装置的长期使用过程中,GOA单元中的第一过孔103上方及周围的导电薄膜106长时间处于低电位的工作状态,并且位于靠近封框胶的位置,容易受到外部电磁干扰,并且经常处于高温、高湿、污染、应力等环境下,造成该位置处的导电薄膜106容易发生电化学腐蚀,导电薄膜106劣化甚至烧毁,最终引起屏幕显示异常。
发明内容
本发明提供一种阵列基板、显示装置及阵列基板的制备方法,能够解决现有技术存在的GOA区域上的导电薄膜易受外部电磁干扰和易受腐蚀的问题。
为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是:提供一种阵列基板,该阵列基板包括显示区域和GOA区域。显示区域包括显示区域TFT,所述显示区域交叉设置有数据线、栅线、下层透明电极和上层透明电极;GOA区域包括GOA区域TFT、GOA区域电极层和电路保护层,所述GOA区域设置有至少一个第一过孔和至少一个第二过孔,所述第一过孔的底部为数据线金属层,所述第二过孔的底部为栅线金属层;所述GOA区域电极层通过所述第一过孔与所述GOA区域TFT电连接,所述GOA区域电极层通过所述第二过孔与外部驱动电路电连接,其中,所述GOA区域电极层与所述下层透明电极利用同层同构图工艺形成,所述电路保护层与所述上层透明电极利用同层同构图工艺形成;所述显示区域和所述GOA区域之上覆盖有第一绝缘层和第二绝缘层;所述下层透明电极设在所述第一绝缘层和所述第二绝缘层之间,所述上层透明电极设在第二绝缘层之上;所述电路保护层覆盖在所述GOA区域的上方,用于屏蔽外部电磁干扰及保护所述GOA区域的电路免受腐蚀;其中,所述GOA区域电极层与所述下层透明电极同层,所述电路保护层与所述上层透明电极同层;所述下层透明电极为像素电极,所述上层透明电极为公共电极;或者,所述下层透明电极为公共电极,所述上层透明电极为像素电极。
其中,所述GOA区域电极层和所述电路保护层均为透明导电薄膜。
为解决上述技术问题,本发明采用的另一个技术方案是:提供一种显示装置,该显示装置包括上述阵列基板。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的