[发明专利]一种镀制激光高反膜的方法

权利要求书

1.一种镀制激光高反膜的方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1、制作混合膜料H，其中混合膜料H选用混合材料TiO₂:Ta₂O₅和Ta₂O₅:ZrO₂中的一种；其中，TiO₂:Ta₂O₅的比例选为9:1、8:2或7:3；Ta₂O₅:ZrO₂的比例选为9:1、8:2或6:4；将SiO₂作为膜料L；

步骤2、对镀件(3)进行镀膜，具体为：

0)、将镀件(3)置于真空镀膜机的真空室(1)上部，通过转轴(2)与真空室上壁连接，并可绕转轴(2)转动；离子源(5)设置在镀件(3)的下方，离子源(5)的两侧分别设置环形坩埚(6)和普通坩埚(7)；其中环形坩埚(6)中盛放膜料H，其形状为圆环形凹槽，采用电子枪A(8)产生的电子束对其进行照射；环形坩埚(6)可绕圆环形凹槽的中心轴转动；普通坩埚(7)盛放膜料L，形状为圆形，采用电子枪B(9)产生的电子束对其进行照射；采用膜厚控制仪(4)监测镀件(3)的膜层厚度；

1)、清理真空室(1)，镀件(3)采用超声波清洗；

2)、环形坩埚(6)转速设定为0.5r/min；镀件(3)转速设定为5r/min，对其进行烘烤；

3)、设定镀件(3)的膜系结构，共33层，其中单数层镀制膜料H，双数层镀制膜料L；各膜层厚度均为光学厚度；其中，λ表示镀件(3)镀制完成后的工作波长的中心波长；

4)、开始对真空室(1)抽真空，当真空度到达6.0×10^-3Pa后，镀件(3)转速调整到12r/min，离子源(5)的充氧气值为6.0sccm；真空度降至1.0×10^-2pa时，离子源(5)的离子束流调节到70mA；

5)、电子枪B(9)的光斑调成圆形光斑，开始蒸镀普通坩埚(7)中的“H”膜料，蒸镀过程采用膜层控制仪(4)实时监控膜层厚度，当膜层厚度到达光学厚度时时，停止蒸镀，此时第1层蒸镀完成；然后，将电子枪A(8)调成“一”字型光斑，并使光斑照射在环形凹槽的膜料L上，同时保证光斑处于环形坩埚(6)的圆形的一条直径上，然后开始蒸镀环形坩埚(6)中的膜料L，蒸镀过程监控膜层厚度，当膜层到达光学厚度时，停止蒸镀，此时第2层蒸镀完成；如此反复以上过程，直至第33层蒸镀完成；

6)、蒸镀完成后，将真空室(1)降到室温后，取出镀件(3)，并对镀件(3)进行烘烤，烘烤温度为300℃，保持8-10h后，室温取出。

2.如权利要求1所述的一种镀制激光高反膜的方法，其特征在于，所述真空镀膜机选用ZZS900型镀膜机。

3.如权利要求1所述的一种镀制激光高反膜的方法，其特征在于，所述膜厚监测仪(4)型号为INFICON公司的SQC310薄膜镀层控制仪。

4.如权利要求1所述的一种镀制激光高反膜的方法，其特征在于，蒸发速率设置为：膜料H为0.5nm/s，膜料L为0.35nm/s。

5.如权利要求1所述的一种镀制激光高反膜的方法，其特征在于，步骤2)中对镀件(3)的烘烤温度设定为300℃，烘烤时间设定为40min。