[发明专利]一种显示基板及其制作方法、显示装置有效
申请号: | 201510599701.6 | 申请日: | 2015-09-18 |
公开(公告)号: | CN105140242B | 公开(公告)日: | 2018-02-13 |
发明(设计)人: | 蒋学兵;张然;高吉磊 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L21/77 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示 及其 制作方法 显示装置 | ||
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示基板及其制作方法、显示装置。
背景技术
目前,显示装置的主体结构包括显示基板,如图1所示,显示基板包括相对设置的第一基板11和第二基板21;其中,第一基板11上设置有多个功能层。在第一基板11上形成功能层时,由于制作工艺的影响,易造成功能层的总厚度不均匀。
例如,在第一基板11上形成金属功能层如栅线层时,首先采用磁控溅射的方式在第一基板11上沉积金属薄膜,然后通过构图工艺形成栅线层,而对于大尺寸的显示装置的阵列基板(例如,尺寸大于等于32寸的显示装置),通过磁控溅射的方式在第一基板11上沉积金属薄膜时,所使用的金属靶材通常由多个条状靶材单元拼接而成,在第一基板11上沉积金属薄膜时,第一基板11上与金属靶材上相邻的两个条状靶材单元的拼接区对应的区域为第一区域,第一基板11上与金属靶材上的非拼接区对应的区域为第二区域。由于金属靶材上相邻的两个条状靶材单元的拼接区的成膜速度比金属靶材上的非拼接区的成膜速度低,因而在进行磁控溅射后,位于第一区域内的金属薄膜的厚度要小于位于第二区域内的金属薄膜的厚度,因此,通过构图工艺形成的栅线层中,位于第一区域内的栅线层的厚度小于位于第二区域内的栅线层的厚度。
由上可知,由于第一基板11上位于第一区域内的栅线层的厚度小于位于第二区域内的栅线层的厚度,因而在位于第一区域内的其它功能层的厚度与位于第二区域内的其它功能层的厚度相同的情况下,第一基板11上位于第一区域内的功能层的总厚度比位于第二区域内的功能层的总厚度薄,即造成第一基板11上的功能层的总厚度不均匀,即图1中d1和d2不相同,使得将第一基板11与第二基板21对盒后形成的显示基板的盒厚不均匀,导致显示装置的画面显示品质降低。
发明内容
本发明的目的在于提供一种显示基板及其制作方法、显示装置,用于解决因阵列基板的功能层的总厚度不均引起显示基板的盒厚不均匀,导致显示装置的画面显示品质降低的技术问题。
为了实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
一方面,本发明提供一种显示基板,一种显示基板,包括相对设置的第一基板和第二基板,所述第一基板包括第一区域和第二区域,所述第一基板上位于所述第一区域内的功能层的总厚度比位于所述第二区域内的功能层的总厚度薄;
在所述第一基板与所述第二基板之间设有厚度补偿层,所述厚度补偿层与所述第一区域对应,所述厚度补偿层和所述第一区域内的功能层的总厚度与所述第二区域内的功能层的总厚度相等。
另一方面,本发明提供一种显示装置,所述显示装置设置有如上述技术方案所述的显示基板。
再一方面,本发明提供一种显示基板的制作方法,包括:
提供第一基板与第二基板,所述第一基板包括第一区域和第二区域,所述第一基板上位于所述第一区域内的功能层的总厚度比位于所述第二区域内的功能层的总厚度薄;
在所述第一基板上的所述第一区域内形成厚度补偿层,或/和,在所述第二基板上与所述第一区域对应的区域内形成所述厚度补偿层,所述厚度补偿层和所述第一区域内的功能层的总厚度与所述第二区域内的功能层的总厚度相等。
在本发明提供的显示基板中,由于在第一基板与第二基板之间设置有厚度补偿层,厚度补偿层与第一区域对应,且厚度补偿层和第一区域内的功能层的总厚度与第二区域内的功能层的总厚度相等,因而将第一基板与第二基板对盒后,厚度补偿层可以对显示基板上与第一区域对应的盒厚进行补偿,以使显示基板上与第一区域对应的盒厚和显示基板上与第二区域对应的盒厚相同,即使显示基板的各个区域的盒厚相同,从而可以防止因位于第一基板上的功能层的总厚度不均匀而导致显示基板的盒厚不均匀,进而改善显示装置的画面显示品质。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解,构成本发明的一部分,本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明,并不构成对本发明的不当限定。在附图中:
图1为现有技术中的一种显示基板的截面图;
图2为本发明实施例提供的一种显示基板的截面图;
图3为本发明实施例提供的另一种显示基板的截面图;
图4为本发明实施例提供的再一种显示基板的截面图;
图5为本发明实施例提供的又一种显示基板的截面图;
图6为本发明实施例提供的一种显示基板的制作方法;
图7为本发明实施例提供的另一种显示基板的制作方法;
图8为本发明实施例提供的再一种显示基板的制作方法;
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的