[发明专利]用漆涂覆衬底的方法和用于平面化漆层的设备

说明书

本发明涉及一种用漆涂覆衬底(26)的方法，其包括以下步骤：‑对衬底(26)均匀地施加漆，‑降低对衬底(26)施加的漆(30)的溶剂比例，‑将涂覆的衬底(26)暴露于溶剂氛，本发明还涉及一种用于平面化漆层的设备。

本发明涉及用漆涂覆衬底的方法和用于平面化衬底上的漆层的设备。

微米和纳米制造工艺通常使用漆，所述漆以层施加到待处理的衬底上。在这些漆的帮助下，有可能产生例如衬底上的掩模，在其帮助下可以产生所需的结构或者可以在衬底上实现加工。为了这个目的，所述漆是例如光敏的，从而使得所需的结构可以在光学成像的帮助下从光掩模传递到光敏漆。

为了达到最佳结果，非常重要的是所施加的漆层不含有任何不规则(irregularities)和颗粒。除了旋转方法，也使用喷射法将漆施加到衬底上，在喷射法中，通过喷嘴将漆喷射到衬底上。尤其在衬底具有表面形貌的情况下，即，衬底本身已经在其表面上具有垂直的三维结构，以只通过喷涂漆的经济方式可以实现尽可能均匀的漆层。

然而，由于一定数量的漆滴在喷嘴和衬底之间飞行时变干，然后已经作为(几乎)固化的漆颗粒撞击衬底的表面上或者在该位置处存在的漆，因此，当喷涂漆时，漆颗粒在漆层上形成。这些漆颗粒在喷涂的漆层上聚集并且在进一步的加工期间(例如，在暴露于光期间)造成问题，并最终导致所产生的结构上的局部缺陷。

本发明的目的是提供一种方法和一种设备，其中，施加在衬底上的漆层平坦并且不含有漆颗粒。

该目的通过用漆涂覆衬底的方法实现，其中将漆均匀地施加到衬底上，然后降低施加到衬底的漆的溶剂比例，随后将涂覆的衬底暴露于溶剂氛。由于涂覆的衬底暴露于溶剂氛，已经在衬底上形成的漆颗粒溶解。然而，由于衬底的溶剂比例已经预先降低，因此确保即便是在溶剂氛中操作期间，对衬底施加的漆不会进一步流动或者开始再次流动。因此确保即便是在可能提供的表面形貌的陡峭倾斜点处，衬底保持完全地涂覆有漆。

直到衬底暴露于溶剂氛时和衬底暴露于溶剂氛期间，所施加的漆的溶剂比例必须保持在一范围内，在该范围内所施加的漆的粘度足够高以确保漆不再流动。同时，必须不能将溶剂比例降低到使得漆颗粒或者不规则不再能够被溶剂氛溶解。

在这方面，术语“漆”应理解成溶剂和适于所需的应用的漆的混合物。

在已暴露于溶剂氛之后，优选加热涂覆的衬底，由此所施加的漆经历软烘。软烘降低漆的溶剂比例到漆完全硬化并且可以进一步加工(例如，暴露于光)的程度。

可以将涂覆的衬底暴露于真空以便以所需的方式降低对衬底施加的漆的溶剂比例。以这种方式，挥发性溶剂的一部分蒸发，所以漆的粘度增加。

真空应被理解为小于0.3巴的压力。

在一个实施方案变化中，加热涂覆的衬底以便降低对衬底施加的漆的溶剂比例，由此漆的粘度同样增加。

在本发明一个实施方案中，溶剂氛具有至少50摩尔％，尤其是至少70摩尔％的溶剂比例。已经证明这些值特别适于溶解从而去除所施加的漆上的不规则和漆颗粒。

溶剂可以是丙酮或甲基乙基酮，由此可以使用便宜的已知溶剂。

在本发明的一个实施方案中，溶剂氛的温度高于溶剂的沸点，从而防止溶剂的凝结，这会导致不希望的溶剂液滴。这些液滴是不希望的，因为它们可以以不受控制的方式滴到涂覆的漆上并破坏漆层。

例如，溶剂氛的压力大于或等于0.5巴，特别是大于或等于0.7巴，由此确保可靠地去除漆颗粒和不规则。

涂覆的衬底可以在溶剂氛中暴露480s或更少，特别是420s或更少。这段时间足够长使漆颗粒溶解并且不规则变平坦，但是又足够短使所施加的漆不会开始再次溶解和开始流动。

在本发明的一个实施方案变化中，通过喷射将漆均匀地施加到衬底，由此即便该衬底具有表面形貌，可以以尝试和测试的方式均匀地涂覆衬底。