[发明专利]一种碱性无氰镀铜剂及其使用方法在审
申请号: | 201510615034.6 | 申请日: | 2015-09-24 |
公开(公告)号: | CN105154929A | 公开(公告)日: | 2015-12-16 |
发明(设计)人: | 钱宏彬 | 申请(专利权)人: | 钱宏彬 |
主分类号: | C25D3/38 | 分类号: | C25D3/38 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 317000 浙江省台*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 碱性 镀铜 及其 使用方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种碱性无氰镀铜剂及其使用方法。
背景技术
电镀铜在电镀中占有较大比例。铜镀层均匀、细致,用途广泛,主要作为镀镍、镀锡、镀银和镀金的打底层或中间层,以提高基体金属和表面镀层的结合力,还可以减少镀层孔隙,提高镀层的防腐蚀性能;装饰性镀铬时,常采用厚铜薄镍镀层,以节约金属镍。镀铜还有其他一些用途。
目前,工业应用的镀铜工艺主要有氰化镀铜、酸性镀铜和焦磷酸盐镀铜。
氰化镀铜可以直接在钢铁、锌合金等基体上作为打底镀层。氰化镀铜结晶细致,与基体结合力好,镀液分散能力和深镀能力强,但不宜获得很厚的镀层,常用于预镀。氰化钠易受空气中的氧和二氧化碳作用而分解为碳酸钠,因此镀液稳定性差。由于氰化钠剧毒,因此镀液对环境和人体有严重危害。
硫酸盐镀铜应用较为广泛,但钢铁件在硫酸盐镀铜液中会产生疏松的置换铜层,严重影响镀层的结合力,锌压铸件、铝及其合金也会受镀液的腐蚀,因而在活泼性较强的基体上不能直接镀光亮酸铜,此外酸铜也不适于复杂件的电镀。
焦磷酸盐镀铜配槽费用大、成本高,镀液活化能力不好,镀层结合力差,钢铁、铝合金等零件一般不能直接进行焦磷酸盐镀铜,需要进行预镀、预浸等处理,长时间使用还会造成磷酸盐积累,沉积速度显著下降,而且废水难以处理。
铜是电镀单金属中应用最广泛的镀种之一,绝大多数电镀企业铜镍铬电镀工艺采用氰化镀铜打底,氰化镀铜也是锌合金件电镀铜镍铬层的唯一有效打底铜工艺。但是氰化镀铜含有剧毒的氰化钠和氰化亚铜,危害人员身体健康,给生产带来重大安全隐患,也给环境与生态造成巨大破坏。因此,研发无氰镀铜工艺,已成国内外面临的共同课题。近年来,国内外虽出现了一些无氰镀铜工艺,但都存在着不同程度的缺陷,主要是结合力差、阳极溶解性不好、镀层长毛刺、工艺范围窄、溶液稳定性差及废水处理困难。
发明内容
本发明要解决现有碱性无氰镀铜工艺中存在的诸多不足,提供一种低成本、稳定性好、易维护并且能应用于大生产的碱性无氰镀铜剂,该碱性无氰镀铜剂既可以在氰化镀铜液中替代氰化钠,直接转缸,也可以采用本发明的全无氰碱性镀铜工艺,此工艺既适用于滚镀也适用于挂镀,操作简单,镀液稳定,其结合力、深镀能力及均镀能力均已达到氰化镀铜,可以完全替代氰化镀铜。
为解决上述问题,本发明采用如下技术方案:
一种碱性无氰镀铜剂,包括以下质量百分比的物质:
pH调节剂1~20%
电流稳定剂60~92%
走位剂1~15%
络合剂1~25%。
作为优选的技术方案,所述pH调节剂为碳酸钠、碳酸钾、氢氧化钠、柠檬酸钠、柠檬酸钾的一种或两种以上的混合物。
作为优选的技术方案,所述电流稳定剂为氯化钾、氯化钠、氯化铜、碘化钾、碘化钠的一种或两种以上的混合物。
作为优选的技术方案,所述走位剂为酒石酸钠、苯甲酸钠、乙酸钠、草酸钾的一种或两种以上的混合物。
作为优选的技术方案,所述络合剂为植酸钠、酒石酸钾钠、乙醇酸、葡萄糖酸钠、草酸钠的一种或两种以上的混合物。
作为优选的技术方案,所得到的碱性无氰镀铜剂为细微颗粒或粉末状物质。
一种碱性无氰镀铜剂的使用方法,包括以下方式、用量及步骤:
1)在氰化镀铜镀液中,用碱性无氰镀铜剂替代氰化钠,按分析后所需添加氰化钠的量秤取碱性无氰镀铜剂;
2)将步骤1)所取的碱性无氰镀铜剂用电镀溶液溶解彻底;
3)将步骤2)所得到的碱性无氰镀铜剂溶液加入到电镀槽中,并搅拌均匀,即可电镀。
一种碱性无氰镀铜剂的使用方法,包括以下工艺及步骤:
碱性无氰镀铜剂60-80g/l、硫酸铜50-70g/l、氢氧化钠50-70g/l、氯化钾90-110g/l、酒石酸钾钠10-20g/l、FW1503开缸剂30-50ml/l。
1)在电解槽内将水温加热到80℃,再将计量的硫酸铜和氯化钾一起倒入并不停搅拌,直至完全溶解,清澈见底;
2)将其他成分在不同的溶解槽内各自单独溶解(FW1503开缸剂除外),直到溶解彻底;
3)待步骤1)硫酸铜和氯化钾溶液冷却至40℃左右时,将步骤2)中的各溶液与其混合,氢氧化钠溶液最后加入,并搅拌,然后加入计量水和FW1503开缸剂,最后搅拌均匀。
作为优选的技术方案,电镀槽内的电流密度为:0.5~3A/dm2。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于钱宏彬,未经钱宏彬许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510615034.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:装甲车战斗全景影像系统
- 下一篇:用于汽轮发电机组凝汽器的抽气装置