[发明专利]专用于过敏性皮炎的抗敏、抗炎外用制剂

权利要求书

1.一种专用于过敏性皮炎的抗敏、抗炎外用制剂，其特征在于：该制剂由抗敏抗炎组份、抗菌抗炎组份、润肤保湿组份、药物助渗增效组份、药物基质组份按一定的配方组成。

2.根据权利要求1所述的抗敏、抗炎外用制剂，其特征在于各组分的原料组成为：抗敏抗炎组分包括：硼酸、氧化苦参碱；抗菌抗炎组分包括：尼泊金甲酯、尼泊金丙酯；润肤保湿组分包括：丙三醇或丙二醇；药物助渗增效组分包括：油溶氮酮或水溶氮酮；药物基质组分选用下列中的一种：乳膏基质、水溶性乳液基质、水基质。

3.根据权利要求2所述的抗敏、抗炎外用制剂，其特征在于各组分在份为重量单位的条件下，其配方为：硼酸：1-2份；氧化苦参碱：0.01-0.10份；尼泊金甲酯：0.05-0.15份；尼泊金丙酯：0.05-0.15份；丙三醇或丙二醇：2-15；油溶或水溶氮酮：0.2-3份；药物基质组份：加至100份；药物基质组分选用下列中的一种：乳膏基质、水溶性乳液基质、水基质。

4.根据权利要求3所述的抗敏、抗炎外用制剂，其特征在于在份为重量单位的条件下，各组分的进一步配方为：硼酸：1.5份；氧化苦参碱：0.03份；尼泊金甲酯：0.08；尼泊金丙酯：0.08；丙三醇：6；油溶或水溶氮酮：1.5份；药物基质组份：加至100份；药物基质组分选用下列中的一种：乳膏基质、水溶性乳液基质、水基质。