[发明专利]改良的蓝图工程机碳粉和缺陷蓝图工程机碳粉的改良方法

说明书

技术领域

本发明涉及打印耗材领域，尤其是涉及一种改良的蓝图工程机碳粉和缺陷蓝图工程机碳粉的改良方法。

背景技术

蓝图图纸在机械、建筑等领域的研发设计工作中应用相当广泛，蓝图图纸在档案的存放过程中，具有保存时间长的优点，并且能够避免图纸遭到非法修改。

传统的蓝图制造工艺是是先用工程机打印黑色硫酸图，再用晒图机晒制蓝图。此方法不仅效率低，而且成本高，同时因在晒制蓝图时需使用氨水，会污染环境、危害操作工人健康。传统蓝图的制造工艺的出图环节多，容易造成人力、物力资源浪费，同时易造成数据丢失。另外，晒图纸与耗材保质期较短，很容易产生直接报废致使成本增加。传统晒图机需要大功率排风设施，排风机、管道不易安装，占用办公空间大，且需要独立空间操作。

近年来，开始使用蓝图工程机直接打印工程蓝图的方式，这种方式使用起来更加方便、快捷。例如型号为生产厂家奥西的OCE320、OCE450和OCE750的工程机，可用于A0至A4以及其它类型的打印纸，从而直接将设计图纸打印出来。

为了降低使用成本，这几种类型的工程机往往会采用兼容碳粉进行打印工作，然而，目前中国市场上的这几款OCE工程机使用的兼容碳粉在使用过程中会出现供粉不足或补粉时间过长的问题，这样就会显著影响打印速度，降低工作效率。

发明内容

本发明的主要目的是提供一种改善蓝图工程机的兼容碳粉在打印时存在问题的改良的蓝图工程机碳粉。

本发明的另一目的是提供一种得到上述改良的蓝图工程机碳粉的改性方法。

本发明提供的改良的蓝图工程机碳粉，按重量份,包括：100份缺陷蓝图工程机碳粉,缺陷蓝图工程机碳粉是用于蓝图工程机的兼容碳粉，改良的蓝图工程机碳粉还包括0.1份至1.5份的小粒径二氧化硅，小粒径二氧化硅的粒径大于5纳米且小于10纳米，小粒径二氧化硅带负电且带电量为400微库仑每克（μC/g)至800微库仑每克，小粒径二氧化硅经聚二甲基硅氧烷或六甲基二硅氮烷表面改性处理。

由上述方案可见，现有的缺陷蓝图工程机碳粉的供粉时间长的问题得到改善。

一个优选的方案是，改良的蓝图工程机碳粉还包括0.1份至1.5份的大粒径二氧化硅，大粒径二氧化硅的粒径大于10纳米且小于150纳米，大粒径二氧化硅带负电且带电量为100微库仑每克至500微库仑每克，大粒径二氧化硅经聚二甲基硅氧烷或六甲基二硅氮烷表面改性处理。

由上述方案可见，供粉时间长的问题得到进一步的改善，可以完成正常的打印工作，并且改良的碳粉的带电量和流动性均有改善。

一个优选的方案是，缺陷蓝图工程机碳粉是用于OCE320蓝图工程机上的兼容碳粉，缺陷蓝图工程机碳粉为99.6份，小粒径二氧化硅为0.4份。

由上述方案可见，缺陷蓝图工程机碳粉在测试5米后出现长时间的供粉问题，最长时间为5分钟，之后打印2米至4米之后再次出现补粉现象，15分钟之后可继续打印，缺陷蓝图工程机碳粉的Q/M和Coe（%）分别为39.3和11.01。而改良的蓝图工程机碳粉在测试时，20分钟之后才出现补粉现象，补粉过程为3分钟，机器持续工作10分钟后又出现补粉现象，时间为5分钟，在150米内出现6次补粉，补粉过程为3分钟至5分钟，持续打印间隔为10米至20米，改良的蓝图工程机碳粉的Q/M和Coe（%）分别为41.2和8.33。这说明改良后的蓝图工程机碳粉的性能得到了一定改善。

一个优选的方案是，改良的蓝图工程机碳粉按以下组份配比：99.5份第一次改良的蓝图工程机碳粉、0.3份小粒径二氧化硅、0.2份大粒径二氧化硅；第一次改良的蓝图工程机碳粉按以下组份配比：99.6份的缺陷蓝图工程机碳粉和0.4份的小粒径二氧化硅，缺陷蓝图工程机碳粉是用于OCE320蓝图工程机上的兼容碳粉；大粒径二氧化硅的粒径大于10纳米且小于150纳米，大粒径二氧化硅带负电且带电量为100微库仑每克至500微库仑每克，大粒径二氧化硅经聚二甲基硅氧烷或六甲基二硅氮烷表面改性处理。

由上述方案可见，改良的蓝图工程机碳粉经过测试，75米后才出现机器补粉，补粉过程3分钟，机器持续工作60米后又出现补粉现象，时间为2分钟。测试200米内补粉过程出现3次，时间为1分钟至3分钟，改良的蓝图工程机碳粉的Q/M和Coe（%）分别为43.2和3.5。可见，相比于第一次改良的蓝图工程机碳粉，第二次改良的蓝图工程机碳粉具有进一步的改善作用。