[发明专利]一种彩色滤光片基板及其制造方法、液晶显示面板

说明书

本发明公开了一种彩色滤光片基板、彩色滤光片基板的制造方法和液晶显示面板。所述彩色滤光片基板包括衬底基板；黑矩阵层，其包括形成在衬底基板的第一表面上的边框；金属网格层，其包括形成在与衬底基板的第一表面相对的第二表面上的网格线；其中，金属网格层的网格线与黑矩阵层的边框对应设置，且金属网格层的网格线在衬底基板上的投影区域位于黑矩阵层的边框在衬底基板上的投影区域的内部。本申请采用金属网格作为静电传导层，能够同时保证高较高的穿透率和较低的面电阻，提高静电传导能力。

技术领域

本发明涉及液晶显示器技术领域，具体地说，涉及一种彩色滤光片基板、彩色滤光片基板的制造方法和液晶显示面板。

背景技术

近年来，随着液晶显示技术的不断发展，已出现多种提供大视角显示效果的显示技术，例如共面转换(In-Plate Swiching，IPS)技术和边缘电场开关(Fringe FieldSwitching，FFS)技术。FFS和IPS显示技术在实现宽视角的前提下，同时实现了高透光率、高对比度、高亮度和低色差等优良特性。

FFS和IPS同属于水平电场控制模式。图1为现有技术中IPS模式的液晶显示面板的结构示意图。液晶显示面板具有彼此相对设置的彩色滤光片基板110和阵列基板120，以及位于彩色滤光片基板110和阵列基板120之间的液晶层130。在彩色滤光基板的内表面形成有黑矩阵113和彩色滤光层115，通常，还在黑矩阵和彩色滤光层上形成保护层117。在阵列基板120的内表面上形成有公共电极123和像素电极125，使得液晶层中的液晶分子在水平电场的控制下发生偏转。

液晶显示器制造过程中或者在使用过程中，会产生静电积聚在彩色滤光片基板上。当静电积累到一定程度后会形成静电场，对液晶层内部的液晶分子产生干扰，导致显示画面异常。

为了防止静电对液晶层的影响，通常利用真空溅射工艺在彩色滤光基板110的上表面形成透明导电的氧化铟锡(Indium tin oxide，ITO)层119。并且，需要增大ITO层的厚度来降低其面电阻，以获得较好的导电效果。然而，ITO层厚度增大导致其透光率明显降低。如图2所示，当ITO层的厚度为200埃时，其面电阻为2000Ω，波长为400nm光的穿透率为98％；当ITO层的厚度增加为400埃时，其面电阻降低为500Ω，但是波长为400nm光的穿透率降低至80％，这使得液晶显示面板整体的亮度显著降低。

因此，亟需一种彩色滤光片基板，其表面形成的静电传导层同时具有较低面电阻和较高穿透率。

发明内容

本发明的目的之一在于解决现有的彩色滤光片基板在静电传导层面电阻减小时，导致穿透率过度降低的技术缺陷。

本发明的实施例首先提供一种彩色滤光片基板，包括：

衬底基板；

黑矩阵层，其包括形成在衬底基板的第一表面上的边框；

金属网格层，其包括形成在与衬底基板的第一表面相对的第二表面上的网格线；

其中，金属网格层的网格线与黑矩阵层的边框对应设置，且金属网格层的网格线在衬底基板上的投影区域位于黑矩阵层的边框在衬底基板上的投影区域的内部。

在一个实施例中，所述金属网格层的网格线围成多个网格单元，每一网格单元设置为与黑矩阵层的矩形单元一一对应。

在一个实施例中，所述金属网格层的网格线围成多个网格单元，每一网格单元设置为与黑矩阵层的至少一个矩形单元对应。

在一个实施例中，所述金属网格层的网格线的宽度小于黑矩阵层的边框的宽度。

本发明的实施例还提供一种彩色滤光片基板的制造方法，包括以下步骤：

提供一衬底基板；

在衬底基板的第一表面上形成黑矩阵层的边框；