[发明专利]一种显示基板及其制作方法和显示装置

权利要求书

1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

在衬底基板形成一用于制作黑矩阵的非透明材料层；

在完成上述步骤的基板上形成一用于制作主、副柱状隔垫物的透明材料层；

利用一次构图工艺形成包括主、副柱状隔垫物以及黑矩阵的图形。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，形成的所述主、副柱状隔垫物的段差为0.3～0.7μm。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述利用构图工艺形成包括主、副柱状隔垫物以及黑矩阵的图形，包括：

利用包括与所述主、副柱状隔垫物图形对应的掩膜板对光刻胶进行曝光、显影，形成包括主、副柱状隔垫物以及黑矩阵的图形。

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述掩膜板包括与主柱状隔垫物相对应的完全透光区域以及与副柱状隔垫物相对应的半透光区域；或者，

所述掩膜板包括与主柱状隔垫物相对应的大孔，以及与副柱状隔垫物相对应的小孔；其中，所述大孔的孔径大于所述小孔的孔径。

5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述利用构图工艺形成包括主、副柱状隔垫物以及黑矩阵的图形，具体包括：

利用包括与主柱状隔垫物图形相对应的完全透光区域以及与副柱状隔垫物图形相对应的半透光区域的掩膜板进行曝光，使得与所述主、副柱状隔垫物图形对应的区域的透明材料和非透明材料固化；利用显影液去除没有固化的透明材料以及非透明材料，以形成主、副柱状隔垫物和黑矩阵的图形；或者

利用包括与主柱状隔垫物图形相对应的大孔以及与副柱状隔垫物图形相对应的小孔的掩膜板进行曝光，使得与所述主、副柱状隔垫物图形对应的区域的透明材料和非透明材料固化；利用显影液去除没有固化的透明材料以及非透明材料，以形成主、副柱状隔垫物和黑矩阵的图形。

6.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述显示基板还包括薄膜晶体管、彩膜层和像素电极；在形成一用于制作黑矩阵的非透明材料层之前，所述方法还包括：

在所述衬底基板上形成包括薄膜晶体管的图形；

在所述包括薄膜晶体管的图形的基板上形成包括彩膜层的图形；

在所述包括彩膜层的图形的基板上形成包括像素电极的图形。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，在形成包括像素电极的图形之前，所述方法还包括：

在所述包括彩膜层的图形的基板上形成用于保护所述薄膜晶体管和彩膜层免受破坏的钝化层。

8.一种使用权利要求1～7任一权项所述的方法制作的显示基板，其特征在于，所述显示基板包括：

衬底基板；

位于所述衬底基板上的黑矩阵；

位于所述黑矩阵远离所述衬底基板的一侧的形成柱状隔垫物，所述柱状隔垫物包括透明的主柱状隔垫物和副柱状隔垫物。

9.如权利要求8所述的显示基板，其特征在于，所述主、副柱状隔垫物的段差为0.3～0.7μm。

10.如权利要求8所述的显示基板，其特征在于，所述黑矩阵采用非透明材料，所述主、副柱状隔垫物采用透明材料。

11.如权利要求8所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：位于所述衬底基板上方的薄膜晶体管；位于所述薄膜晶体管所在层上方的彩膜层；位于所述彩膜层上方的像素电极。

12.如权利要求11所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括设置在所述彩膜层和所述像素电极之间的钝化层，用于保护所述薄膜晶体管和所述彩膜层免受破坏。

13.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括如权利要求8～12任一权项所述的显示基板。